[发明专利]一种等离子体清洗装置及其使用方法

权利要求书

1.一种等离子体清洗装置，其特征在于：包括壳体（1）以及与壳体（1）一侧活动连接的门板（10），所述壳体（1）一侧的凹槽内放置有推拉板（3），所述壳体（1）的顶部设置有等离子体发生器（14），所述推拉板（3）的两侧安装有连接块（11），连接块（11）对应插入位于推拉板（3）两侧的侧边安装块（13）的滑槽（12）中，所述安装块（13）与壳体（1）一侧的凹槽内壁固定连接，所述安装块（13）内部安装有移动装置（2），所述移动装置（2）带动连接块（11）沿着滑槽（12）内部滑动；

所述推拉板（3）上端设置有安装槽（4），所述安装槽（4）内部均匀安装有若干个安装块（5），安装块（5）上端设置有放置槽（6），沿着放置槽（6）内部排列有若干缓冲块（9），且放置槽（6）内部设置有若干透水孔（8），沿着安装块（5）的顶部设置有挡板（7）。

2.根据权利要求1所述的一种等离子体清洗装置，其特征在于：所述移动装置（2）包括位于壳体（1）侧边内部的电机（21）、与电机（21）输出轴连接的斜齿轮一（22）、与斜齿轮一（22）一侧相啮合的斜齿轮二（23）以及设置在连接块（11）底部的若干插槽（24）。

3.根据权利要求2所述的一种等离子体清洗装置，其特征在于：所述斜齿轮二（23）位于侧边安装块（13）中，且斜齿轮二（23）位于滑槽（12）的下方，斜齿轮二（23）的上端插入插槽（24）与插槽（24）相啮合。

4.根据权利要求1所述的一种等离子体清洗装置，其特征在于：所述门板（10）不与壳体（1）连接的一侧设置有第二插槽（16），靠近第二插槽（16）的壳体（1）内侧设置有第一插槽（15），所述第二插槽（16）内部设置有固定板（18），固定板（18）的中心处设置有转轴（17），所述转轴（17）的一端穿过第二插槽（16）位于门板（10）的外侧，所述门板（10）的一侧设置有密封垫（19）。

5.根据权利要求4所述的一种等离子体清洗装置，其特征在于：所述固定板（18）的一侧为圆弧形，转轴（17）带动固定板（18）旋转至固定板（18）一侧插入第一插槽（15）中，第一插槽（15）和第二插槽（16）位于同一竖直平面上。

6.根据权利要求1所述的一种等离子体清洗装置，其特征在于：所述放置槽（6）的形状呈圆台形，且圆台下端的长度小于圆台上端的长度，所述挡板（7）沿着放置槽（6）的上端排列。

7.根据权利要求6所述的一种等离子体清洗装置，其特征在于：所述挡板（7）呈弧形板，挡板（7）的下端形状与放置槽（6）的上端形状相匹配，挡板（7）下端的两端延伸至放置槽（6）两侧边的中心处。

8.根据权利要求7所述的一种等离子体清洗装置，其特征在于：所述挡板（7）上端向两侧倾斜设置，挡板（7）侧边的倾斜方向与放置槽（6）的倾斜方向相匹配。

9.根据权利要求1-8任一所述的一种等离子体清洗装置的使用方法，其特征在于：包括如下步骤：

S1、启动电机（21），通过移动装置（2）带动连接块（11）沿着滑槽（12）内部滑动，进而带动推拉板（3）向壳体（1）的外侧移动；

S2、将待清洗的物品依次插入放置槽（6）中，然后通过移动装置（2），带动推拉板（3）向壳体（1）的内侧移动，移动至推拉板（3）位于壳体（1）内部即可；

S3、旋转门板（10）至门板（10）的外侧与壳体（1）的外侧相齐平，此时，旋转转轴（17），转轴（17）带动固定板（18）旋转，旋转至固定板（18）弧形的一侧旋转至插入第一插槽（15）中即可，此时，通过等离子体发生器（14）对位于壳体（1）内部的物品进行清理。