[发明专利]一种计算圆口径天线辐射近场的等效方法

权利要求书

1.一种计算圆口径天线辐射近场的等效方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

步骤1、在圆口径天线的口径面上，以一定的间距设置多个采样点；

步骤2、根据每个采样点处的场分布，计算对应的等效磁流；

步骤3、计算每个采样点处等效磁流在空间的辐射场；

步骤4、将采样点的辐射场叠加，得到口径面上等效磁流的辐射总场；

步骤5、计算场强修正系数；

步骤2中计算等效磁流的方法具体为：

口径面上每个采样点的等效磁流的表达式为：

其中为每个磁流源的坐标，位于口径面上；为口径面的单位法向矢量，即为采样点位置处的电场；

步骤3中计算辐射场的方法具体为：

等效磁流源在空间任意位置产生的辐射场为：

其中g₀为自由空间格林函数；

步骤4中计算辐射总场的具体方法为：

口径面上所有等效磁流源产生的总辐射场为：

其中为第(p,q)个等效磁流源在空间任意位置处的辐射场，Δs为口径面上每个子网格的面积，A为修正系数；

步骤5中计算场强修正系数的具体方法为：

系数A根据圆口径天线远场距离R处的辐射场强值进行修正，η为自由空间波阻抗，ERP为等效辐射功率。

2.根据权利要求1所述的计算圆口径天线辐射近场的等效方法，其特征在于，步骤1中设置采样点的方法具体为：

在圆口径天线的口径面上设置采样点，圆形口径面位于xoy平面，中心为原点，将口径面划分为P×Q个正方形网格，每个子网格的边长为波长的1/10，采样点位于每个子网格的中心。

3.根据权利要求1所述的计算圆口径天线辐射近场的等效方法，其特征在于，步骤2中口径面的场分布的获取方法具体为：

口径面的场分布的获取方法包括：通过测试方法获得口径面上场分布，或者根据口径场分布函数获得口径面上场分布。