[发明专利]一种矢量补偿体布拉格光栅角度偏转器的制备方法有效
| 申请号: | 202011311195.3 | 申请日: | 2020-11-20 |
| 公开(公告)号: | CN112327398B | 公开(公告)日: | 2022-03-08 |
| 发明(设计)人: | 晋云霞;郝旺;邵建达;孔钒宇;何冬兵;孙静;赵靖寅;莫建威;韩昱行 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18;G02B26/10 |
| 代理公司: | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人: | 张宁展 |
| 地址: | 201800 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 矢量 补偿 布拉格 光栅 角度 偏转 制备 方法 | ||
1.一种矢量补偿体布拉格光栅角度偏转器的制备方法,其特征在于:该方法包括如下步骤:
步骤1)根据矢量补偿体布拉格光栅角度偏转器工作时的入射光束锥角θ的范围设计样品架:该样品架由底板(1)和固定在该底板(1)上的夹板组(2)组成,所述的夹板组(2)由两块夹板连接构成,其中一块夹板垂直固定在所述的底板(1)上,另一块倾斜固定在所述的底板(1)上,两块夹板之间的夹角为θ';
步骤2)将所述的样品架固定在一维弧摆台(3)上,样品固定在夹板组(2)内,调整一维弧摆台的转动角度α,使曝光光束入射样品的入射光束锥角θ”=θ'±α;
步骤3)对样品进行曝光,曝光后使用马弗炉对样品进行热处理;
步骤4)热处理后对样品前后表面进行抛光;
步骤5)在样品前后表面镀制1064nm增透膜,取下样品,即得到矢量补偿体布拉格光栅角度偏转器。
2.根据权利要求1所述的矢量补偿体布拉格光栅角度偏转器的制备方法,其特征在于:所述的一维弧摆台(3)的转动角度α的范围为-30°~30°。
3.根据权利要求1所述的矢量补偿体布拉格光栅角度偏转器的制备方法,其特征在于:可调矢量补偿器包括样品架底板、样品架夹板组和一维弧摆台;所述的可调矢量补偿器对锥角入射光束角度θ在θ'-30°~θ'+30°范围内的体布拉格光栅角度偏转器进行矢量补偿。
4.根据权利要求1所述的矢量补偿体布拉格光栅角度偏转器的制备方法,其特征在于:所述的矢量补偿体布拉格光栅角度偏转器工作时的入射光束锥角θ等于曝光光束入射样品的入射光束锥角θ”。
5.根据权利要求1所述的矢量补偿体布拉格光栅角度偏转器的制备方法,其特征在于:在曝光时对记录在光敏材料内的体布拉格光栅进行矢量补偿,矢量补偿体布拉格光栅角度偏转器在工作时使原本偏离布拉格条件的锥角入射光束满足布拉格条件。
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