[发明专利]一种基于溶解氧传感器的荧光膜、溶解氧敏感膜及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种基于溶解氧传感器的荧光膜制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

将正硅酸乙酯、三氟丙基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷和乙醇混合，并在酸性条件加入三(4,7-二苯基-1,10-邻菲罗琳)二氯化钌，于加热条件下密封搅拌530～550min，得到溶胶凝胶溶液；

将所述溶胶凝胶溶液涂覆并固化成膜，得到荧光膜。

2.如权利要求1所述的基于溶解氧传感器的荧光膜制备方法，其特征在于，所述正硅酸乙酯、所述三氟丙基三甲氧基硅烷、所述甲基三乙氧基硅烷和所述乙醇的体积比为1:0.8～1.5:0.2～0.5:0.6～1.2。

3.如权利要求1所述基于溶解氧传感器的的荧光膜制备方法，其特征在于，所述酸催化的条件的pH值为1.5，所述加热温度为43～47℃。

4.如权利要求1所述基于溶解氧传感器的的荧光膜制备方法，其特征在于，所述三(4,7-二苯基-1,10-邻菲罗琳)二氯化钌在所述溶胶凝胶溶液的浓度为3.96～9.9mg/ml。

5.如权利要求1～4中任一项所述基于溶解氧传感器的的荧光膜制备方法，其特征在于，所述固化成膜的固化温度为20～30℃。

6.一种如权利要求1～5中任一项所述方法制备得到的荧光膜。

7.一种溶解氧敏感膜，其特征在于，包括如权利要求6所述的荧光膜，以及基材和遮光膜，所述基材、所述荧光膜和所述遮光膜从下至上依次设置。

8.如权利要求7所述的溶解氧敏感膜，其特征在于，所述荧光膜的厚度为10～15μm，所述遮光膜的厚度为8～12μm，所述基材为光学亚克力。

9.如权利要求7或8所述的溶解氧敏感膜，其特征在于，所述遮光膜由如下方法制备得到：按质量比为1:0.05～0.2，分别称取黑色聚硅酮和甲基硅油，混合均匀后，得到混合液，再将该混合物涂覆并固化成膜。

10.一种如权利要求7～9任一项所述的溶解氧敏感膜在测试溶解氧中的应用。