[发明专利]一种除垢剂及其应用在审
| 申请号： | 202011308806.9 | 申请日： | 2020-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN112410007A | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 蔡佳玲;冯佳慧;冯宇;李爽;胡艳琴;刘付平;李嘉辉;刘伟刚;孔杰;吴奇;张峰;张子敏;余豪奇;熊有恒;何非凡;吴勇进;花榕;陈焕文;刘云海;柳和生 | 申请（专利权）人： | 东华理工大学 |
| 主分类号： | C09K8/524 | 分类号： | C09K8/524;C09K8/528 |
| 代理公司： | 北京方圆嘉禾知识产权代理有限公司 11385 | 代理人： | 任霜 |
| 地址： | 330013 江西省南*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 除垢剂 及其 应用 | ||
【权利要求书】：
1.一种除垢剂，其特征在于，包括HClO4、EDTA和NaF+HNO3；
所述HClO4、EDTA和NaF+HNO3的质量比为(1～7)：(1～7)：(1～7)；
所述NaF+HNO3为NaF和HNO3的混合物；
所述NaF+HNO3中NaF和HNO3的摩尔比为1:1。
2.如权利要求1所述的除垢剂，其特征在于，所述HClO4、EDTA和NaF+HNO3的质量比为(2～5)：(1～4)：(2～5)。
3.如权利要求2所述的除垢剂，其特征在于，所述HClO4、EDTA和NaF+HNO3的质量比为(3～4)：(1～3.5)：(3～5)。
4.如权利要求3所述的除垢剂，其特征在于，所述HClO4、EDTA和NaF+HNO3的质量比为4:1:5。
5.权利要求1～4任一项所述的除垢剂在去除地浸采铀产生的垢物中的应用。
6.如权利要求5所述的应用，其特征在于，所述地浸采铀为CO2+O2地浸采铀。
7.权利要求5或6所述的应用，其特征在于，所述除垢剂以除垢剂溶液的形式进行应用；
所述除垢剂溶液的质量浓度为1～2％。
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