[发明专利]一种具备形状记忆与可修复功能的PVA/PTMG-PAA共混薄膜有效

专利信息
申请号: 202011305561.4 申请日: 2020-11-20
公开(公告)号: CN112409734B 公开(公告)日: 2022-07-01
发明(设计)人: 宋晓峰;任亚君;周琦锋;夏文龙;张转转 申请(专利权)人: 长春工业大学
主分类号: C08L29/04 分类号: C08L29/04;C08L51/08;C08F283/06;C08F220/06;C08J5/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 130012 吉林*** 国省代码: 吉林;22
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摘要:
搜索关键词: 一种 具备 形状 记忆 修复 功能 pva ptmg paa 薄膜
【说明书】:

发明涉及一种具备形状记忆与可修复功能的PVA/PTMG‑PAA共混薄膜,合成一种以PTMG(Tg=‑76℃)为软段和PAA为亲水段的聚合物,通过AGE一端的环氧开环与PTMG脱水,使PTMG两端被双键功能化,然后合成的PTMG‑AGE引发AA自由基聚合,最终产物共混PVA,获得PVA/PTMG‑PAA共混薄膜。因为合成的聚合物具有软段,并且亲水段PAA含有大量羧基,可以与PVA羟基形成稳定氢键,PVA自身分子间氢键较弱,遇水氢键断裂,脱水形成氢键,合成产物极大增加PVA吸水溶胀率,使形状恢复和修复取得优异效果。

技术领域

本发明属于高分子功能化领域,涉及一种具备形状记忆与可修复功能的PVA/PTMG-PAA共混薄膜。

背景技术

一定形状的固体材料在某种外界条件刺激下发生塑性形变,经过特定环境刺激,材料又完全恢复到变形前形状的现象被称为形状记忆效应。根据实现记忆功能的环境条件不同,可分为感温型、感水型、感光型和感酸碱型等多种记忆材料,目前应用研究最多的是热致形状记忆和水诱导形状记忆聚合物材料。

将可修复功能集成到人造材料中,不但可以减少原材料消耗,而且可以提高其耐用性和可靠性。目前,人们应用可逆共价键相互作用(或氢键)制造出可修复材料。例如,PVA是一种理想的绿色聚合物,通过重复的冻融方法可以制备出PVA水凝胶,在冷冻过程中PVA微晶和PVA链之间的氢键形成物理交联。PVA晶体容易熔化,加热到50~60℃时氢键断裂,降温氢键可以恢复。但是普通PVA水凝胶修复缓慢。如果设计出一种聚合物不但可以使PVA具备形状记忆,而且能够增强自恢复损伤,那么这种材料将在更尖端的领域获得应用。

发明内容

为了达到上述目的,本发明提供了一种具备形状记忆与可修复功能的PVA/PTMG-PAA共混薄膜,形状恢复条件简单,裂口修复时间短,效率高。

本发明的技术方案:合成一种以PTMG(Tg=-76℃)为软段和PAA为亲水段的聚合物,通过AGE一端的环氧开环与PTMG脱水,使PTMG两端被双键功能化,然后合成的PTMG-AGE引发AA自由基聚合,最终产物共混PVA,获得PVA/PTMG-PAA共混薄膜。因为合成的聚合物具有软段,并且亲水段PAA含有大量羧基,可以与PVA羟基形成稳定氢键,PVA自身分子间氢键较弱,遇水氢键断裂,脱水形成氢键,合成产物极大增加PVA吸水溶胀率,使形状恢复和修复取得优异效果。

所述的聚合物,其分子链上PTMG软段的结构如下:

n为大于1的整数。

所述的聚合物,其分子链AGE中间段的结构如下:

所述的聚合物,其分子链上PAA的结构如下:

m为大于1的整数。

附图说明

图1为聚合物的核磁共振氢谱图。

如图1所示,核磁谱图中,A图中1.6~1.7ppm、3.5ppm均为PTMG中-CH2-中氢的化学位移,B图中5.5ppm左右乙烯基上氢的化学位移出现说明PTMG与AGE脱水结合成功。C图中12.25ppm左右出现的-COOH峰,5.5ppm左右乙烯基上氢的化学位移消失,表明PAA已经通过AGE与PTMG聚合。采用1H-NMR表征的结果说明一种PTMG软段和PAA为亲水段的聚合物已经合成。

图2为本发明制备的聚合物和PVA共混薄膜形状记忆过程。

图3为本发明制备的聚合物与PVA共混薄膜修复的过程。

具体实施方式

下面通过实施例对本发明进行具体描述。

实施例1:

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