[发明专利]覆膜玻璃及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种覆膜玻璃，其特征在于，所述覆膜玻璃主要由若干层纳米多孔SiO₂薄膜覆载于玻璃基体上制得；所述纳米多孔SiO₂薄膜主要由SiO₂溶胶和离子聚合物溶液制备得到；

所述若干层纳米多孔SiO₂薄膜包括5～15层纳米多孔SiO₂薄膜；

所述SiO₂溶胶主要由聚二烯丙基二甲基氯化铵溶液与硅酸钠溶液复配得到，所述硅酸钠溶液的浓度15.6～100.5mg/mL；

所述SiO₂溶胶的pH为1.2～6.5；

所述的覆膜玻璃的制备方法，包括以下步骤：

(a)、提供玻璃基体，然后将玻璃基体浸入离子聚合物溶液中浸泡，随后依次进行清洗、干燥，得到中间体A；

(b)、将中间体A浸入SiO₂溶胶中浸泡，随后依次进行清洗、干燥，得到覆载有纳米多孔SiO₂薄膜的玻璃；

(c)、以步骤(b)得到的覆载有纳米多孔SiO₂薄膜的玻璃为基体，重复步骤(a)和步骤(b)若干次，得到覆载有若干层纳米多孔SiO₂薄膜的玻璃，随后高温煅烧，得到覆膜玻璃；

所述步骤(c)中高温煅烧的煅烧温度为200～500℃，时间为1～6h。

2.根据权利要求1所述的覆膜玻璃，其特征在于，所述若干层纳米多孔SiO₂薄膜包括12层纳米多孔SiO₂薄膜。

3.根据权利要求1所述的覆膜玻璃，其特征在于，所述聚二烯丙基二甲基氯化铵溶液的浓度为0.5～5.8mg/mL。

4.根据权利要求1所述的覆膜玻璃，其特征在于，所述硅酸钠溶液的浓度为39.1mg/mL。

5.根据权利要求1所述的覆膜玻璃，其特征在于，所述SiO₂溶胶的pH为4。

6.根据权利要求1所述的覆膜玻璃，其特征在于，所述聚二烯丙基二甲基氯化铵溶液与硅酸钠溶液复配体积比为40～80:8～25。

7.根据权利要求6所述的覆膜玻璃，其特征在于，所述聚二烯丙基二甲基氯化铵溶液与硅酸钠溶液复配体积比为60:15。

8.根据权利要求1所述的覆膜玻璃，其特征在于，所述离子聚合物溶液包括聚苯乙烯磺酸钠、聚偏氟乙烯、醋酸纤维素钠、聚天冬氨酸和聚丙烯酸溶液中的至少一种。

9.根据权利要求8所述的覆膜玻璃，其特征在于，所述聚丙烯酸溶液的浓度为0.2～5.0mg/mL。

10.根据权利要求1所述的覆膜玻璃，其特征在于，所述玻璃基体包括硼硅酸盐玻璃、铝硅玻璃、微晶玻璃、磷酸玻璃和苏打玻璃中的至少一种。

11.根据权利要求1所述的覆膜玻璃，其特征在于，所述覆膜玻璃的制备方法还包括对步骤(a)提供的玻璃基体进行预处理的步骤。

12.根据权利要求11所述的覆膜玻璃，其特征在于，所述预处理的步骤为：使用碱性洗剂超声清洗玻璃基体25～35min，随后将玻璃基体在聚二烯丙基二甲基氯化铵溶液中浸泡25～35min，取出干燥，完成预处理。

13.根据权利要求12所述的覆膜玻璃，其特征在于，所述碱性洗剂包括YIJ-018、YIJ-08和WIN-15中的一种。

14.根据权利要求1所述的覆膜玻璃，其特征在于，所述步骤(c)中高温煅烧的煅烧温度为300℃，时间为4h。

15.一种根据权利要求1～14任一项所述的覆膜玻璃在制备光学成像设备中的应用。