[发明专利]在对图案化样本的计量测量中使用的测量系统

权利要求书

1.一种在对图案化样本的计量测量中使用的测量系统，所述测量系统包括：

至少一个光源设备，被配置为生成宽带光，

至少一个检测设备，被配置为提供所检测光的光谱信息，以及光学系统，被配置为将通过所述至少一个光源设备生成的入射光沿着照明通道引导到样本要定位在的测量平面上，并且将从所述样本反射的宽带光沿着收集通道引导到所述至少一个检测设备，其中，

所述光学系统包括干涉测量单元，所述干涉测量单元包括分束/合束设备和参考反射器设备，所述分束/合束设备容纳于所述照明通道和所述收集通道中并且被配置为将在所述照明通道中传播的光划分为在样本路径中传播的样本光束和在参考路径中传播的参考光束，并且将反射参考路径和反射样本路径组合到所述收集通道中，从而在由所述至少一个检测设备限定的检测平面上形成光谱干涉图案，并且

其中，所述干涉测量单元包括MEMS类型的2-轴反射器，所述MEMS类型的2-轴反射器用于翻转/倾斜位移，以将所述参考反射器设备的平面与所述测量平面内的样本点对准，

其中，所述测量系统还包括可控地操作以选择性地阻挡所述参考路径的阻光机构。

2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述分束/合束设备被配置为限定位于不同的平面内的至少一个分束面和至少一个合束面，至少一个所述分束面和至少一个所述合束面沿着垂直于所述测量平面的轴线间隔开并且彼此基本上平行且与所述测量平面和所述参考反射器设备的参考反射面的平面基本上平行。

3.根据权利要求1所述的系统，其中，所述分束/合束设备被配置为限定位于相同的平面内的至少一个分束面和至少一个合束面，至少一个所述分束面和至少一个所述合束面基本上平行于所述测量平面和所述参考反射器设备的参考反射面的平面。

4.根据权利要求1所述的系统，其中，所述分束/合束设备被配置为限定以间隔开的关系定位并相对于法向平面基本上对称地定向的至少一个分束面和至少一个合束面，所述法向平面垂直于所述测量平面和入射平面。

5.根据权利要求3所述的系统，其中，所述干涉测量单元被配置为使得所述样本路径和所述参考路径相对于包含所述分束面和所述合束面的所述平面形成所述反射样本路径和所述反射参考路径的镜像。

6.根据权利要求3或4所述的系统，其中，所述干涉测量单元被配置为使得所述样本路径和所述参考路径相对于垂直于所述测量平面和入射平面的法向平面形成所述反射样本路径和所述反射参考路径的镜像。

7.根据权利要求1所述的系统，其中，所述分束/合束设备包括包含至少一个部分反射区域的至少一个薄膜结构。

8.根据权利要求7所述的系统，其中，所述薄膜结构包括位于所述薄膜结构的相对的表面中的任一个上并沿该表面延伸的所述部分反射区域。

9.根据权利要求7所述的系统，其中，所述薄膜结构包括位于所述薄膜结构的相对的表面中的第一表面上并且与所述相对的表面中的第二表面上的透射区域基本上对准的第一部分反射区域和位于所述相对的表面中的所述第二表面上并与所述第一表面上的透射区域基本上对准的第二部分反射区域。

10.根据权利要求7所述的系统，其中，所述部分反射区域将所述薄膜结构划分为在所述区域的相对侧处的两个基本上相同的透射薄膜。

11.根据权利要求7所述的系统，其中，所述分束/合束设备包括位于所述照明通道中的第一薄膜和位于所述收集通道中的第二薄膜，每个薄膜包括所述至少一个部分反射区域。

12.根据权利要求1所述的系统，其中，所述参考反射器设备包括位于基本上平行于所述测量平面的平面内的至少一个反射面。