[发明专利]一种单晶硅生产制造用抛光打磨设备及其使用方法

说明书

本发明公开了一种单晶硅生产制造用抛光打磨设备及其使用方法，该设备包括单晶硅抛光机本体，单晶硅抛光机本体的顶部设置有气缸，单晶硅抛光机本体的中部设置有工作台，工作台的顶端固定安装有防护箱，气缸的输出端延伸至防护箱的内端固定安装有打磨机构；本发明的有益效果是：本发明一种单晶硅生产制造用抛光打磨设备，通过设置防护箱使打磨过程在防护箱内进行，有效的防止了打磨时产生的单晶硅粉尘漂浮出来，且在防护箱的内端设置有能够任意调整位置的滴水头，滴水头滴落的水能够均匀的滴落在单晶硅片的表面，从而将打磨时产生的单晶硅粉尘清理掉，并通过排水管排出，有效地减少了工作环境内硅粉尘的数量，提高了工作环境。

技术领域

本发明涉及一种单晶硅生产制造用设备，特别涉及一种单晶硅生产制造用抛光打磨设备及其使用方法。

背景技术

单晶硅是单质硅的一种形态，熔融的单质硅在凝固时硅原子以金刚石晶格排列成许多晶核，如果这些晶核长成晶面取向相同的晶粒，则这些晶粒平行结合起来便结晶成单晶硅，单晶硅生产制造用抛光打磨设备是用于对单晶硅片进行打磨的一种设备，常见的单晶硅生产制造用抛光打磨设备通常为直接在工作环境内进行打磨，打磨时产生的硅粉尘容易漂浮在空气中，这些粉尘容易被工作人员吸入体内造成矽肺等疾病，存在一定的安全隐患。

发明内容

本发明的目的在于提供一种单晶硅生产制造用抛光打磨设备及其使用方法，以解决上述背景技术中提出的常见的单晶硅生产制造用抛光打磨设备打磨时产生的硅粉尘容易被工作人员吸入体内的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种单晶硅生产制造用抛光打磨设备，包括单晶硅抛光机本体，所述单晶硅抛光机本体的顶部设置有气缸，所述单晶硅抛光机本体的中部设置有工作台，所述工作台的顶端固定安装有防护箱，所述气缸的输出端延伸至防护箱的内端固定安装有打磨机构，所述防护箱外壁的顶部固定安装有进水管，所述进水管的一端延伸至防护箱的内端固定安装有连接管，所述连接管的一端固定连接有万向管，所述万向管的底端固定安装有滴水头，所述防护箱外壁的底部设置有排水管。

作为本发明的一种优选技术方案，所述防护箱的开口处转动安装有箱门。

作为本发明的一种优选技术方案，所述箱门的内端固定安装有观察窗。

作为本发明的一种优选技术方案，所述打磨机构包括安装座，所述安装座的顶端与气缸的输出端固定连接，所述安装座内端的底部固定安装有电机，所述电机的输出端固定安装有固定座，所述固定座的底端固定安装有磨片。

作为本发明的一种优选技术方案，所述滴水头内端的底部设置有若干个分流道。

作为本发明的一种优选技术方案，所述进水管、连接管、万向管和滴水头的内腔为连通设置。

作为本发明的一种优选技术方案，所述排水管的一端延伸至防护箱内腔的底部。

本发明一种单晶硅生产制造用抛光打磨设备使用时包括以下步骤：

S1：打开箱门将单晶硅片固定在防护箱内，关闭箱门后控制气缸的输出端伸出使磨片与单晶硅片接触；

S2：然后即可开启电机进行打磨，电机的输出端通过固定座可以带动磨片旋转，从而对单晶硅片进行打磨；

S3：通过进水管注入水，水通过连接管和万向管从滴水头处滴落，滴水头内端的底部设置有若干个分流道，使水均匀的滴落在单晶硅片的表面，将打磨时产生的单晶硅粉尘进行清理，最后通过排水管排出。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明一种单晶硅生产制造用抛光打磨设备，通过设置防护箱使打磨过程在防护箱内进行，有效的防止了打磨时产生的单晶硅粉尘漂浮出来，且在防护箱的内端设置有能够任意调整位置的滴水头，滴水头滴落的水能够均匀的滴落在单晶硅片的表面，从而将打磨时产生的单晶硅粉尘清理掉，并通过排水管排出，有效地减少了工作环境内硅粉尘的数量，提高了工作环境。

附图说明