[发明专利]一种化学反应器及其应用有效
| 申请号： | 202011288929.0 | 申请日： | 2020-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN112426986B | 公开（公告）日： | 2022-08-12 |
| 发明（设计）人： | 马少华;庞鑫龙;赵浩然;曹远雄;邢新会 | 申请（专利权）人： | 清华大学深圳国际研究生院 |
| 主分类号： | B01J19/12 | 分类号： | B01J19/12 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 张建珍 |
| 地址： | 518055 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 反应器 及其 应用 | ||
1.一种化学反应器，其特征在于，包括基层和光敏涂层；所述光敏涂层覆设于所述基层的一表面，所述光敏涂层由光敏材料制得，所述光敏材料在白光照射下激发氧气产生单线态氧；所述单线态氧可穿过所述基层；所述光敏材料选自PT、PTTzT、PBT3中的至少一种；
所述PT的结构式为：；
所述PTTzT的结构式为：；
所述PBT3的结构式为：；
所述化学反应器用于单线态氧参与的有机化合物合成，且在使用时合成原料配成的反应液喷涂于所述基层上背离所述光敏涂层的一侧表面。
2.根据权利要求1所述的化学反应器，其特征在于，所述基层为纸基层、尼龙膜层、玻璃纤维膜层中的至少一种。
3.根据权利要求1至2中任一项所述的化学反应器，其特征在于，还包括阻隔层，所述阻隔层设于所述基层上背离所述光敏涂层的一侧表面，用于阻隔会损坏所述基层和/或所述光敏涂层的物质，且单线态氧可穿过所述阻隔层。
4.根据权利要求3所述的化学反应器，其特征在于，所述会损坏所述基层和/或所述光敏涂层的物质包括可溶解所述光敏涂层的溶剂。
5.根据权利要求3所述的化学反应器，其特征在于，所述阻隔层的材料为聚四氟乙烯、聚
6.权利要求1至5中任一项所述的化学反应器在单线态氧参与的有机化合物合成中的应用。
7.根据权利要求6所述的应用，所述单线态氧参与的有机化合物合成包括C-H活化反应合成有机化合物、C-H官能化合成共轭聚合物、亚砜类化合物的合成、苯并噻吩类化合物的合成、苯并呋喃类化合物的合成中的至少一种。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学深圳国际研究生院，未经清华大学深圳国际研究生院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011288929.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
