[发明专利]一种喷嘴密封结构及电磁阀喷嘴

说明书

本发明公开一种喷嘴密封结构及电磁阀喷嘴，该喷嘴密封结构包括喷嘴、衔铁，所述衔铁下端的中间处开有密封槽，所述密封槽内安装有密封件，所述衔铁下端的外周向下延伸以形成延伸部，所述延伸部位于所述密封件的下方，所述延伸部的下端面与所述喷嘴的上端面相接触，且所述延伸部的下端面上位于所述密封件的外部开设有通气槽以供外部空气进入。本发明衔铁的延伸部与喷嘴的上端面相接触，从而只需控制密封件的密封面高度及喷嘴上密封部分的高度即可控制密封变形量，无需在喷嘴上加工凸台，简化了结构，降低了生产成本。

技术领域

本发明涉及电磁阀喷嘴技术领域，尤其涉及一种喷嘴密封结构及电磁阀喷嘴。

背景技术

在当前电磁阀喷嘴设计中，喷嘴部分的密封变形量主要依靠压紧力(如弹簧力)来控制，然而，依靠弹簧的压紧力控制变形量时，由于每个弹簧的弹簧力公差较大，密封变形量控制不够精准，有泄露隐患，且使用寿命较短。鉴于上述问题，部分厂家设计的电磁阀喷嘴中，有依靠喷嘴2上的两层凸台3高度差定位控制，如图1所示，密封件4与喷嘴2上密封部分配合密封，喷嘴2上端面形成有凸台3，进而形成高度差，便于控制变形量，然而，依靠两层凸台3高度差定位控制变形量时，加工及检测难度大，且成本较高。由此，急需解决。

发明内容

本发明的目的在于针对上述问题，提供一种喷嘴密封结构及电磁阀喷嘴，以解决上述背景技术中提出的问题。

本发明的目的是通过以下技术方案来实现：

一种喷嘴密封结构，包括喷嘴、衔铁，所述衔铁下端的中间处开有密封槽，所述密封槽内安装有密封件，所述衔铁下端的外周向下延伸以形成延伸部，所述延伸部位于所述密封件的下方，所述延伸部的下端面与所述喷嘴的上端面相接触，且所述延伸部的下端面上位于所述密封件的外部开设有通气槽以供外部空气进入。

作为本发明的一种优选方案，所述延伸部的下端面上开设有多条通气槽。

作为本发明的一种优选方案，所述的通气槽为2条，所述的2条通气槽对称分布。

作为本发明的一种优选方案，所述的通气槽为3条，所述的3条通气槽沿圆周方向均布。

作为本发明的一种优选方案，所述的通气槽为4条，所述的4条通气槽呈十字形分布。

作为本发明的一种优选方案，所述通气槽的截面为半圆形或扇形或三角形或矩形或梯形。

作为本发明的一种优选方案，所述延伸部与所述衔铁为一体结构。

一种电磁阀喷嘴，包括如上所述的一种喷嘴密封结构。

本发明的有益效果为，本发明衔铁的延伸部与喷嘴的上端面相接触，从而只需控制密封件的密封面高度及喷嘴上密封部分的高度即可控制密封变形量，无需在喷嘴上加工凸台，简化了结构，降低了生产成本。

附图说明

图1为现有喷嘴密封结构的结构示意图；

图2为本发明一种喷嘴密封结构的示意图。

图3为衔铁的下端面结构示意图。

图中：

1、衔铁；2、喷嘴；3、凸台；4、密封件。

11、衔铁；12、喷嘴；13、密封件；14、延伸部；15、通气槽。

具体实施方式

下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。可以理解的是，此处所描述的实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。

请参照图2及图3所示，图2为本发明一种喷嘴密封结构的示意图。图3为衔铁的下端面结构示意图。