[发明专利]一种仿生阵列结构表面防污减阻材料有效
| 申请号: | 202011275199.0 | 申请日: | 2020-11-16 | 
| 公开(公告)号: | CN112300618B | 公开(公告)日: | 2022-07-15 | 
| 发明(设计)人: | 郑纪勇;杨兴杰;蔺存国;孙智勇;邱峥辉;张金伟;王利 | 申请(专利权)人: | 中国船舶重工集团公司第七二五研究所 | 
| 主分类号: | C09D5/16 | 分类号: | C09D5/16 | 
| 代理公司: | 青岛高晓专利事务所(普通合伙) 37104 | 代理人: | 白莹;于正河 | 
| 地址: | 266071 山*** | 国省代码: | 山东;37 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 仿生 阵列 结构 表面 防污 材料 | ||
1.一种仿生阵列结构表面防污减阻材料,其特征在于,主体结构包括基体层、表面结构层、疏水层和改性层;基体层上设置有表面层结构层,基体层与表面结构层之间设置有疏水层,表面结构层的顶部外包有改性层;表面结构层由若干个呈矩阵排列的防污减阻单元构成,两个相邻的防污减阻单元的水平间距与竖直间距均为2000μm;每个防污减阻单元均由头环和支柱上下两部分组成,头环与支柱的顶端固定连接,支柱的底端与基体层固定连接;头环为交叉环状结构,由两个垂直相交的立体圆环组成,圆环的内直径d1为600μm,外直径d2为1200μm,宽度I为400μm;支柱为圆柱体结构,直径d为1200μm,高度h为700μm;
仿生阵列结构表面防污减阻材料的制备工艺过程包括制备基体层和表面结构层、制备改性层和制备疏水层共三个步骤:
(一)制备基体层和表面结构层:将ABS树脂通过3D打印方式制备成基体层和表面结构层,其中,基体层的尺寸为150mm×75mm;
(二)制备改性层:将头环倒悬在纳米SiO2颗粒和硅烷偶联剂KH560的混合样品中,使头环的表面具有疏水改性;
(三)制备疏水层:将聚二甲基硅氧烷PDMS浇入支柱的根部,掩盖支柱高度的50%,完成疏水层的制备,置于80℃的烘箱中烘干10h,得到仿生阵列结构表面防污减阻材料。
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