[发明专利]一种氧化石墨烯金属纳米片复合材料的制备方法在审

专利信息
申请号: 202011269231.4 申请日: 2020-11-13
公开(公告)号: CN112376027A 公开(公告)日: 2021-02-19
发明(设计)人: 屈晓兰;李璐;黄孟琼 申请(专利权)人: 无锡华鑫检测技术有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/58;C01B32/198;C23C14/02;C23C14/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 214100 江苏省无锡市惠*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 氧化 石墨 金属 纳米 复合材料 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种氧化石墨烯金属纳米片复合材料的制备方法,其特征在于,所述方法包括如下:

1)在玻璃基底上均匀的涂敷氧化石墨烯浆料,在一定环境温度下干燥形成氧化石墨烯薄膜;

2)将步骤1)形成的氧化石墨烯薄膜的玻璃基底放入等离子刻蚀机,对氧化石墨烯薄膜进行氧等离子体刻蚀,增加氧化石墨烯薄膜表面的活性;

3)将步骤2)经过等离子体刻蚀后的氧化石墨烯薄膜从玻璃基底上取下,置于磁控溅射炉中,选择特定的金属靶材,在氧化石墨烯薄膜表面进行磁控溅射,得到氧化石墨烯金属纳米粒子复合膜;

4)将步骤3)得到的氧化石墨烯金属纳米粒子复合膜,置于水中浸泡一段时间后,超声分散,得到氧化石墨烯金属纳米片分散液;

5)将步骤4)得到的氧化石墨烯金属纳米片分散液冷冻干燥后得到氧化石墨烯金属纳米片复合材料。

2.根据权利要求1所述的一种氧化石墨烯金属纳米片复合材料的制备方法,其特征在于,所述方法还包括控制在玻璃基底上形成是氧化石墨烯薄膜的厚度以及在氧化石墨烯薄膜表面进行磁控溅射的时间,来控制氧化石墨烯金属纳米片复合材料的成分比。

3.根据权利要求1或者2所述的一种氧化石墨烯金属纳米片复合材料的制备方法,其特征在于,所述形成的氧化石墨烯膜厚度为1~10微米。

4.根据权利要求1或者2所述的一种氧化石墨烯金属纳米片复合材料的制备方法,其特征在于,所述在氧化石墨烯薄膜表面进行磁控溅射的时间为10~900秒。

5.根据权利要求1所述的一种氧化石墨烯金属纳米片复合材料的制备方法,其特征在于,所述氧等离子体刻蚀时间为10~60秒。

6.根据权利要求1所述的一种氧化石墨烯金属纳米片复合材料的制备方法,其特征在于,所述金属靶材为金、银、铝、铜、铁、锌、铬、镍、钴、铂、钯、铱、铑、钌、钛、钒、镁、铟、镧、铟、锑中的一种或多种。

7.根据权利要求1所述的一种氧化石墨烯金属纳米片复合材料的制备方法,其特征在于,所述氧化石墨烯由Brodie法、Staudenmaier法或者hummers法制备获取。

8.根据权利要求1所述的一种氧化石墨烯金属纳米片复合材料的制备方法,其特征在于,所述氧化石墨烯浆料干燥形成氧化石墨烯薄膜的环境温度不超过80℃。

9.根据权利要求1所述的一种氧化石墨烯金属纳米片复合材料的制备方法,其特征在于,所述氧化石墨烯金属纳米粒子复合膜于水中浸泡时间为1-5小时,超声分散时间为10-60分钟。

10.根据权利要求1所述的一种氧化石墨烯金属纳米片复合材料的制备方法,其特征在于,所述氧化石墨烯金属纳米片分散液使用冻干机托盘进行冷冻干燥,时间为10-48小时。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡华鑫检测技术有限公司,未经无锡华鑫检测技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011269231.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top