[发明专利]一种用于精细调控二阶非线性光学过程的方法有效
| 申请号： | 202011266173.X | 申请日： | 2020-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN112269264B | 公开（公告）日： | 2021-06-22 |
| 发明（设计）人： | 冯霞;杨波;秦亦强;张超;朱永元;洪煦昊;赵瑞智;陈涌创;邹谨成 | 申请（专利权）人： | 南京大学 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00;G02F1/35 |
| 代理公司： | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人： | 卢霞 |
| 地址： | 210000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 精细 调控 非线性 光学 过程 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种可以同时实现能量和相位精细调控的相位匹配改进方法，适用于倍频非线性光学过程，其特征是在设计超晶格结构时除了考虑波矢失配以外还引入了一个重要参量：相对相位差角，此方法所对应的超晶格结构函数可以表示为：
f(x)是超晶格畴结构函数；
A1、A2分别是基波和倍频波的复振幅；
Δk为倍频过程中的波矢失配，Δk＝k2-2k1；
φ是相对相位差角，代表的是非线性光学过程中非线性极化波和倍频波之间的相位差值，
φ连续取值0～2π，对应不同类型的能量和相位的精细调控。
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