[发明专利]在弯曲表面上制造纳米光栅的方法、光学器件及电子设备

权利要求书

1.一种在弯曲表面上制造纳米光栅的方法，包括：

在原始衬底的平整表面上形成纳米光栅薄膜结构；

将纳米光栅薄膜结构转移到承载衬底，其中，承载衬底是能够弯曲的；以及

将纳米光栅薄膜结构从承载衬底转移到接收衬底的弯曲表面，

其中，原始衬底是透明衬底，以及在原始衬底的平整表面上形成纳米光栅薄膜结构包括：

在平整表面上涂敷保护层，以及

在保护层上形成纳米光栅薄膜结构；

其中，将纳米光栅薄膜结构转移到承载衬底包括：

在承载衬底上形成临时键合层；

通过临时键合层将纳米光栅薄膜结构和承载衬底临时键合；

通过激光剥离将原始衬底与保护层剥离；以及

从纳米光栅薄膜结构上剥除保护层。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，将纳米光栅薄膜结构从承载衬底转移到接收衬底的弯曲表面包括：

对承载衬底上的纳米光栅薄膜结构和接收衬底的弯曲表面中的至少一个执行表面处理，以便进行永久键合；

对承载衬底上的纳米光栅薄膜结构和接收衬底的弯曲表面进行永久键合；以及

剥离承载衬底。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，将纳米光栅薄膜结构从承载衬底转移到接收衬底的弯曲表面还包括：

在转移过程中，将接收衬底放置在软性支撑件上；

其中，所述方法还包括：

从软性支撑件分离具有纳米光栅薄膜结构的接收衬底。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，承载衬底是透明衬底，纳米光栅薄膜结构和承载衬底之间的临时键合层是紫外线可释放层，纳米光栅薄膜结构和接收衬底之间的永久键合层是紫外线固化层，

其中，将纳米光栅薄膜结构从承载衬底转移到接收衬底的弯曲表面包括：

从承载衬底侧照射紫外线，以固化永久键合层并释放临时键合层。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，承载衬底是柔软弹性衬底。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，将纳米光栅薄膜结构从承载衬底转移到接收衬底的弯曲表面包括：

在承载衬底上施加均匀的压力，以使得承载衬底弯曲，从而令纳米光栅薄膜结构与接收衬底接合在一起。

7.一种光学器件，包括具有弯曲表面的接收衬底，其中，在所述弯曲表面上具有使用根据权利要求1所述的的方法制造的纳米光栅薄膜结构。

8.一种电子设备，包括根据权利要求7所述的光学器件。