[发明专利]对涂覆基底的重量的基于x射线的测定

权利要求书

1.一种测量装置，包括：

x射线传感器，所述x射线传感器包括x射线源和x射线检测器，所述x射线源具有耦接到所述x射线源的高压电源，所述x射线源用于发射x射线的x射线光谱，所述x射线检测器用于响应于传输穿过涂覆基底之后接收到的所述x射线提供测量的x射线信号值，所述涂覆基底包括片材料，在所述片材料上包括涂层材料；

第二传感器，所述第二传感器包括用于提供第二传感器信号的β计量器或红外(IR)传感器，所述第二传感器信号包括用于获得所述涂覆基底的重量测量的数据，所述重量测量包括所述涂覆基底的每单位面积的总重量或所述片材料的每单位面积的总重量；以及

计算设备，所述计算设备被耦接以接收所测量的x射线信号值和所述第二传感器信号，所述计算设备包括处理器和存储器，其中所述处理器被配置为实现基于x射线的计算，所述基于x射线的计算利用所述涂层材料和所述片材料的吸收系数、所测量的x射线信号值、所述x射线光谱和所述重量测量作为计算约束，以用于计算至少所述涂层材料的每单位面积的重量。

2.根据权利要求1所述的测量装置，其中所述处理器进一步在所述基于x射线的计算中利用参考校准测量。

3.根据权利要求1所述的测量装置，其中：

所述处理器被进一步配置为计算预测的x射线信号值，所预测的x射线信号值利用所述涂层材料和所述片材料的所述吸收系数、所述x射线光谱以及所述涂层材料的组成，并且

其中所述基于x射线的计算包括迭代约束的基于x射线的计算，所述迭代约束的基于x射线的计算自动进行所测量的x射线信号值与所预测的x射线信号值的比较，所述迭代约束的基于x射线的计算包括：

以所述涂层材料的每单位面积的初始重量开始，计算初始预测的x射线信号值，然后将所述初始预测的x射线信号值与所测量的x射线传感器信号值进行比较，并且

当测定所述初始预测的x射线信号值与所测量的x射线传感器信号值不充分匹配时，在所测量的x射线信号值相对于所述初始预测的x射线信号值过高的情况下，向上调整所述涂层材料的所述每单位面积的重量，或者在所测量的x射线信号值相对于所述初始预测的x射线信号值过低的情况下，向下调整所述涂层材料的所述每单位面积的重量，并且然后重新计算更新的预测x射线信号值，并且重复所述更新的预测x射线信号值与所测量的x射线信号值的所述比较，并且

重复对所述涂层材料的所述每单位面积的重量的所述调整，直到测定最终预测的x射线信号值与所测量的x射线传感器信号值充分匹配。

4.根据权利要求1所述的测量装置，其中所述x射线传感器和所述第二传感器在同一扫描器头内，所述同一扫描器头被配置用于在所述涂覆基底上方进行扫描。

5.根据权利要求2所述的测量装置，其中所述参考校准测量包括来自校准片的已知基重测量，所述校准片包括与用于施加校正以校正所述x射线光谱的所述涂层材料类似或相同的材料。

6.一种方法，包括：

提供x射线传感器和第二传感器，所述x射线传感器包括x射线源和x射线检测器，所述x射线源具有耦接到所述x射线源的高压电源，所述x射线源用于发射x射线的x射线光谱，所述x射线检测器用于响应于传输穿过涂覆基底之后接收到的所述x射线提供测量的x射线信号值，所述涂覆基底包括片材料，在所述片材料上包括涂层材料，所述第二传感器包括用于提供第二传感器信号的β计量器或红外(IR)传感器，所述第二传感器信号包括用于获得所述涂覆基底的重量测量的数据，所述重量测量包括所述涂覆基底的每单位面积的总重量或所述片材料的每单位面积的总重量；并且

利用基于x射线的计算，所述基于x射线的计算使用所述涂层材料和所述片材料的吸收系数、所测量的x射线信号值、所述x射线光谱和所述重量测量作为计算约束，以计算至少所述涂层材料的每单位面积的重量。

7.根据权利要求6所述的方法，还包括在所述基于x射线的计算中利用参考校准测量，其中所述参考校准测量包括来自校准片的已知基重测量，所述校准片包括与用于施加校正以校正所述x射线光谱的所述涂层材料类似或相同的材料。