[发明专利]一种胶粘剂及光学构件保护片

说明书

本发明涉及保护膜领域，具体涉及一种胶粘剂及光学构件保护片。以重量计，光学构件保护片用胶粘剂包括亲水性聚丙烯酸酯100份、固化剂5‑8份、抗静电剂0.1‑0.8份、流平剂0.05‑0.3份、增塑剂1‑5份、抗氧化剂0.1‑3份、催化剂0.01‑0.1份；其中，亲水性聚丙烯酸酯由含烷氧基的丙烯酸酯类单体75‑90份、烷基丙烯酸酯类交联单体3‑10份、含氮杂环的化合物1‑5份以及含聚乙二醇链段的甲基丙烯酸酯类单体5‑15份聚合而成。含本发明的胶粘剂的光学构件保护片抗污染，高温高湿下几乎没有成分析出，耐温、耐刮擦且撕膜电压低。

技术领域

本发明涉及保护膜领域，尤其涉及一种胶粘剂及光学构件保护片。

背景技术

触摸屏感应器、偏振板等光学构件在加工及运输中易受到损伤或脏污，在其表面贴合保护膜能够使之不被损伤，随后在不需要进行表面保护时可以随时除去。

现阶段，光学构件及其表面的保护膜都是由塑料材料制成，在运输和剥离阶段，会因摩擦而产生静电，有时因静电过大而导致光学构件电路击穿，进而损伤光学构件。另外，光学构件保护膜要求低起粉，高温高湿条件下保护膜中成分无析出，以保护光学构件不被污染。通常的光学构件保护片中的胶粘剂采用聚氨酯类配方，其不仅价格高，且高温高湿条件下配方中的各种组分易析出，造成光学构件污染。而采用亚克力作为胶粘剂的光学构件保护片，亚克力起粉严重，撕膜电压高，也会对光学构件造成污染和损伤。

发明内容

为解决上述技术问题，本发明的目的是提供一种胶粘剂及光学构件保护片，含本发明的胶粘剂的光学构件保护片抗污染，高温高湿下几乎没有成分析出，耐温、耐刮擦且撕膜电压低。

本发明的第一个目的是提供一种光学构件保护片用胶粘剂，其特征在于：以重量计，包括亲水性聚丙烯酸酯100份、固化剂5-8份、抗静电剂0.1-0.8份、流平剂0.05-0.3份、增塑剂1-5份、抗氧化剂0.1-3份和催化剂0.01-0.1份；

其中，亲水性聚丙烯酸酯由含烷氧基的丙烯酸酯类单体75-90份、烷基丙烯酸酯类交联单体3-10份、含氮杂环的化合物1-5份以及含聚乙二醇链段的甲基丙烯酸酯类单体5-15份聚合而成。

进一步地，所述含烷氧基的丙烯酸酯类单体选自丙烯酸烷氧基烷基酯或甲基丙烯酸烷氧基烷基酯。丙烯酸烷氧基烷基酯选自丙烯酸-2-甲氧基乙基酯、丙烯酸-2-乙氧基乙基酯、丙烯酸甲氧基三乙二醇酯、丙烯酸-3-甲氧基丙基酯、丙烯酸-3-乙氧基丙基酯、丙烯酸-4-甲氧基丁基酯和丙烯酸-4-乙氧基丁基酯中的一种或几种。甲基丙烯酸烷氧基烷基酯选自甲基丙烯酸-2-甲氧基乙基酯、甲基丙烯酸-2-乙氧基乙基酯、甲基丙烯酸甲氧基三乙二醇酯、甲基丙烯酸-3-甲氧基丙基酯、甲基丙烯酸-3-乙氧基丙基酯、甲基丙烯酸-4-甲氧基丁基酯和甲基丙烯酸-4-乙氧基丁基酯中的一种或几种。其中，丙烯酸烷氧基烷基酯是优选的，丙烯酸-2-甲氧基乙基酯(MEA)是更优选的。以重量计，胶粘剂中含烷氧基的丙烯酸酯类单体优选比例为75-90份，用量不足75份，胶体的耐久和韧性不足，耐刮擦效果变差。超过90份，胶体本身内聚会变差，环测和耐温效果会下降。

进一步地，烷基丙烯酸酯类交联单体选自含极性基团的丙烯酸酯类单体，可以提高胶粘力或者可以增加压敏胶粘剂组合物的内聚力。从提高胶粘性能和通过增加交联点进行有效交联以提高耐热性的观点来看，优选为含羟基的烷基丙烯酸酯类单体，如(甲基)丙烯酸羟基烷基酯，包括(甲基)丙烯酸-2-羟基乙基酯、(甲基)丙烯酸-3-羟基丙基酯、(甲基)丙烯酸-4-羟基丁基酯和(甲基)丙烯酸-6-羟基己基酯中的一种或几种。此外，从高交联率和生产率优势的观点来看，丙烯酸-2-羟基乙基酯(HEA)和丙烯酸-4-羟基丁基酯(4HBA)是更优选的。以重量计，烷基丙烯酸酯类交联单体优选比例为3-10份，用量不足3份，交联不足，不能满足高温高湿耐久性，粘合特性。用量超过10份，也不能满足高温耐久性。