[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，具有多个像素区以及位于任意相邻两像素区之间的遮光区，所述阵列基板包括：

衬底；

多个彩膜层，设置于所述衬底上并且至少部分位于所述像素区；

多个第一电极层，设置于所述彩膜层远离所述衬底的一侧，并且位于所述像素区，所述第一电极层为透明电极层；

遮光膜，设置于任意相邻两所述第一电极层之间，所述遮光膜为不透光膜层。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述遮光膜的厚度为

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述彩膜层与所述像素区一一对应，任意相邻两彩膜层的颜色不同，每个所述彩膜层延伸至相邻的所述遮光区中，以使任意相邻两彩膜层在相邻的遮光区交叠。

4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述第一电极层与所述像素区一一对应；

所述阵列基板还包括：多个第二电极层，设置于所述衬底上并且至少部分位于所述遮光区，所述第二电极层在所述衬底上的正投影与相邻的所述像素区对应的第一电极层在所述衬底上的正投影交叠。

5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述第二电极层设置于所述衬底和所述彩膜层之间。

6.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，基于权利要求1至5中任意一项所述的阵列基板，所述方法包括：

在衬底上的各个像素区形成多个彩膜层；

在所述彩膜层远离所述衬底的一侧形成第一电极层和遮光膜，所述第一电极层为透明电极层。

7.根据权利要求6所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述在所述彩膜层远离所述衬底的一侧形成第一电极层和遮光膜包括：

在所述彩膜层远离所述衬底的一侧形成第一电极材料层；

在所述第一电极材料层远离所述衬底的一侧形成掩膜层；

在所述掩膜层的作用下对所述第一电极材料层进行图案化处理，以形成所述第一电极层；

在所述掩膜层远离所述衬底的一侧形成遮光材料膜，所述遮光材料膜位于像素区和遮光区；

去除所述掩膜层，以形成所述遮光膜。

8.根据权利要求7所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述在所述掩膜层远离所述衬底的一侧形成遮光材料膜包括：

采用磁控溅射的方式形成遮光金属层，所述遮光金属层为遮光材料膜。

9.根据权利要求8所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述遮光金属层的形成材料包括氧化钼。

10.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1至5中任意一项所述的阵列基板。

11.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板为曲面液晶显示面板。