[发明专利]投影机装置以及其控制方法、以及记录介质在审
申请号: | 202011229607.9 | 申请日: | 2020-11-06 |
公开(公告)号: | CN112782923A | 公开(公告)日: | 2021-05-11 |
发明(设计)人: | 松本晃广;藤井宪晃;森田隆敏;山泽贤悟 | 申请(专利权)人: | 夏普福山半导体株式会社 |
主分类号: | G03B21/20 | 分类号: | G03B21/20;G03B21/14 |
代理公司: | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人: | 叶乙梅 |
地址: | 日本国广岛*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 投影机 装置 及其 控制 方法 以及 记录 介质 | ||
提供即便从投影机装置的投影部到投影面的距离增大,也能够抑制投影图像的亮度的降低,并且确保对于用户的安全性的投影机装置。投影机装置包括:投影部,将图像投影到被投影物体;测距部,测量从所述投影部的射出端到所述被投影物体的距离;以及控制部(24),通过所述测距部测量的距离为既定距离以下的情况,在将投影光的亮度设定为一定的既定值,通过所述测距部测量的距离为比既定距离大的情况,以不超过与所述测量的距离对应的投影光的设定亮度的方式,使所述投影光的亮度增大。
技术领域
本发明是关于投影机装置、投影机装置的控制方法、程序、以及、记录介质。
背景技术
以往,在投影装置领域中,已知下述的技术。在投影机的投影部的投射口附近,投影光的每单位面积的光强度强。因此,要求对用户的安全性的进一步的强化。因此,在投影机设置测距部,测量从投影部的投射口到被测量物的距离,其在安全距离以下判断为非安全区域。在被测量物位于非安全区域的情况,调暗或关闭投影光(专利文献1)。
另外,近年来,开发了将投影机使用在投影映射(projection mapping)的技术。若来自投影机的投影光的光轴与投射面不成为垂直,则由于在投射面的影像扭曲,因此进行扭曲补正。具体而言,计算到投射面的距离,进行影像的扭曲补正(专利文献2)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本公开特许公报“特开2014-174194号”(2014年9月22日公开)
专利文献2:日本公开特许公报“特开2019-20439号”(2019年2月7日公开)
发明内容
本发明所要解决的技术问题
然而,在专利文献1,若从投影机的投影部到被测量物的距离增大,则虽然投影图像扩大,但此时,有所谓投影图像的每单位面积的亮度降低的问题。
另外,在专利文献2中,在投影映射中,由于到投射面的距离小的部分与到投射面的距离大的部分每单位面积的投影图像的亮度不同,有所谓投影图像的亮度不平均的问题。
对于这些问题,若增大投影机的投影部的亮度,则有投影光对用户的安全性造成影响的可能性。
本发明的一方案的目的是:提供即便从投影机装置的投影部到投影面的距离增大,也能够抑制投影图像的亮度的降低,并且确保对于用户的安全性的投影机装置。
解决问题的方案
为了解决上述的课题,本发明的一方案的投影机装置包括:投影部,将图像投影到被投影物体;测距部,测量从所述投影部的射出端到所述被投影物体的距离;以及控制部,在通过所述测距部测量的距离为既定距离以下的情况,将投影光的亮度设定为一定的既定值,在通过所述测距部测量的距离比既定距离大的情况,以不超过与所述测量的距离对应的投影光的设定亮度的方式,使所述投影光的亮度增大。
为了解决上述的课题,在本发明的一方案的投影机装置的控制方法中,包含:投影工序,将图像投影到被投影物体;测距工序,测量从被使用在所述投影工序的投影部的射出端到所述被投影物体的距离;以及控制工序,以在所述测距工序中测量的距离为既定距离以下的情况,将投影光的亮度设定为一定的既定值,在所述测距工序中测量的距离比既定距离大的情况,不超过与所述测量的距离对应的投影光的设定亮度的方式,使所述投影光的亮度增大。
发明效果
根据本发明的一方案,即便从投影机装置的投影部到投影面的距离增大,也能够抑制投影图像的亮度的降低,并且确保对于用户的安全性。
附图说明
图1是表示本发明的实施方式1的投影机装置的向被投影物体的投影的图。
图2是表示图1的投影机装置的要部的模块图。
图3是表示投影部的亮度相对于从图1的投影机装置的投影部到被投影物体的距离的关系的图。
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