[发明专利]一种超低反射率的光学增透膜

说明书

本发明公开一种超低反射率的光学增透膜，超低剩余反射率的光学增透膜包括用于固定至光学玻璃的增透膜主体，增透膜主体具有用以固定至光学玻璃的近端、以及远离光学玻璃的远端；增透膜主体包括十三层膜层，十三层膜层包括七层氟化镁膜层以及六层钛酸镧膜层，氟化镁膜层与钛酸镧膜层由近至远依次交替层叠布设。采用13层膜设计，钛酸镧膜层和氟化镁膜层两种高低折射率膜层交替分布。具有剩余反射率低，膜层敏感性低、无薄层，膜系工艺稳定性好的优点。

技术领域

本发明涉及光学增透膜技术领域，特别涉及一种超低反射率的光学增透膜。

背景技术

光是一种电磁波，当电磁波由一种介质传播到另一种介质时，由于介质物理性质的不同，电磁场的能量将在界面上重新分配，而增透膜的作用，即是通过改变光学玻璃与空气交界面的边界条件，影响光传播过程中的能量分布，从而达到增强透射光的效果。

普通光学玻璃在表面不镀膜的情况下，反射率高达4％以上，随着光学系统性能要求越来越高，一个变焦光学系统中可能需要多达20枚光学镜片，如果没有增透膜，那么系统的能量透过率将只剩20％，而且4％的反射光会在光学系统内多次折射反射形成杂散光，这些都将严重影响光学系统的实际性能。目前主流光学增透膜的剩余反射率约为0.5％，那么20枚镜片的光学系统能量透过率约为82％。这是仅考虑镜片表面反射的结果，如果综合考虑光学材料吸收率、膜层吸收率、光学系统渐晕等因素，总的系统透过率将会更低。而如果光学增透膜的剩余反射率能够控制在0.1％以下，那么20枚镜片的光学系统理论能量透过率可达96％，相比于剩余反射率为0.5％，具有明显的提升。由以上分析可以看出，光学增透膜剩余反射率的进一步压低，不仅可以有效抑制剩余反射光造成的系统杂散光，而且有利于保证光学系统的透过率性能，并将明显提升光学系统在微光甚至夜晚环境下的成像能力。

发明内容

本发明的主要目的是提供一种超低反射率的光学增透膜，旨在改善现有技术中，光学增透膜技术剩余反射率过高的技术问题。

为实现上述目的，本发明提供一种超低反射率的光学增透膜，应用于光学玻璃上，所述超低剩余反射率的光学增透膜包括用于固定至所述光学玻璃的增透膜主体，所述增透膜主体具有用以固定至所述光学玻璃的近端、以及远离所述光学玻璃的远端；

所述增透膜主体包括十三层膜层，所述十三层膜层包括七层氟化镁膜层以及六层钛酸镧膜层，所述氟化镁膜层与所述钛酸镧膜层由近至远依次交替层叠布设。

可选地，所述十三层膜层中每一所述膜层的厚度大于10nm。

可选地，所述七层氟化镁膜层由近至远分别为第一氟化镁膜层、第二氟化镁膜层、第三氟化镁膜层、第四氟化镁膜层、第五氟化镁膜层、第六氟化镁膜层、第七氟化镁膜层；

所述第一氟化镁膜层，厚度为26.85nm-27.05nm；和/或，

所述第二氟化镁膜层，厚度为204.04nm-204.24nm；和/或，

所述第三氟化镁膜层，厚度为15.90nm-16.10nm；和/或，

所述第四氟化镁膜层，厚度为54.66nm-54.86nm；和/或，

所述第五氟化镁膜层，厚度为83.14nm-83.34nm；和/或，

所述第六氟化镁膜层，厚度为14.90nm-15.20nm；和/或，

所述第七氟化镁膜层，厚度为97.41nm-97.61nm。

可选地，所述第一氟化镁膜层厚度为26.95nm，所述第二氟化镁膜层厚度为204.14nm，所述第三氟化镁膜层厚度为16.00nm，所述第四氟化镁膜层厚度为54.76nm，所述第五氟化镁膜层厚度为83.24nm，所述第六氟化镁膜层厚度为15.00nm，所述第七氟化镁膜层厚度为97.51nm。