[发明专利]一种细胞分选磁栅结构、制作方法及磁栅管

权利要求书

1.一种细胞分选磁栅结构，其特征在于，包括磁栅本体，所述磁栅本体由多片纯铁栅页叠加构成，所述纯铁栅页上设置有多个并排的棱柱状体，所述棱柱状体朝向其邻近的所述纯铁栅页的一侧表面成型有棱边，相邻的两个所述纯铁栅页上相邻近的两个所述棱柱状体上的所述棱边平行贴合且贴合后围成的夹角在30-60度。

2.根据权利要求1所述的细胞分选磁栅结构，其特征在于，所述棱柱状体在所述纯铁栅页上斜向设置。

3.根据权利要求1所述的细胞分选磁栅结构，其特征在于，同一所述纯铁栅页上的相邻所述棱柱状体的间距在0.1-0.5mm。

4.根据权利要求1-3任一所述的细胞分选磁栅结构，其特征在于，所述棱柱状体的截面呈菱形，所述棱柱状体上截面菱形的钝角所对应的边为所述棱边。

5.根据权利要求4所述的细胞分选磁栅结构，其特征在于，相邻所述棱柱状体的截面菱形的锐角所对应的边通过连接段连接构成所述纯铁栅页。

6.一种细胞分选磁栅结构的制作方法，用于制作如权利要求1所述的细胞分选磁栅结构，其特征在于，包括以下步骤：

在片状的纯铁栅页上加工成型多个并排的具有棱边的棱柱状体；

制作多个纯铁栅页并叠加构成磁栅本体，叠加时相邻的两个纯铁栅页上相邻近的两个棱柱状体上的棱边平行贴合且贴合后围成的夹角在30-60度。

7.根据权利要求6所述的细胞分选磁栅结构的制作方法，其特征在于，所述棱柱状体在所述纯铁栅页上斜向设置。

8.根据权利要求6所述的细胞分选磁栅结构的制作方法，其特征在于，同一所述纯铁栅页上的相邻所述棱柱状体的间距在0.1-0.5mm。

9.根据权利要求6-8任一所述的细胞分选磁栅结构的制作方法，其特征在于，所述棱柱状体的截面呈菱形，所述棱柱状体上截面菱形的钝角所对应的边为所述棱边。

10.一种细胞分选磁栅管，根据权利要求1-5任一所述的细胞分选磁栅结构，其特征在于，包括管体，所述管体上依次设置有吸入和排出细胞样本的进样针、捕捉细胞样本中磁性微粒的所述磁栅本体、存储待分选的细胞样本悬液或缓冲液的缓冲腔、防止气路的微粒进入细胞样本并防止细胞样本进入气路的透气阀，和连接气路为所述进样针提供正负气压的气路接口。