[发明专利]多层铜互连阻挡层抛光液及其制备方法

权利要求书

1.一种多层铜互连阻挡层抛光液，其特征在于，按质量百分比计由下述组分组成：硅溶胶5-20％，螯合剂0.1-5％，杀菌剂0.15-5％，表面活性剂0.001-5％，pH值调节剂，去离子水余量；所述抛光液的pH值为7.5—11；所述杀菌剂为二价铜离子。

2.根据权利要求1所述的多层铜互连阻挡层抛光液，其特征在于，所述硅溶胶的粒径为30nm—100nm,粘度为3.5-4.2，分散度为±3％。

3.根据权利要求1所述的多层铜互连阻挡层抛光液，其特征在于，所述的螯合剂为甘氨酸、FA/OII型螯合剂、DTPA、硫酸铵、柠檬酸、酒石酸、乙二胺四丙酸、乙二胺四乙酸中的一种或某几种按比例混合。

4.权利要求1所述的多层铜互连阻挡层抛光液，其特征在于：所述活性剂为FA/O表面活性剂、十二烷基二甲基氧化胺(OA)、十二烷基硫酸钠(SDS)、十二烷基苯磺酸钠(SDBS)、十二烷基硫酸铵(ADS)、脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO)、烷基醇酞胺、脂肪铵聚氧乙烯醚、烷基酚聚氧乙烯醚(APEO)中的一种。

5.根据权利要求1所述的多层铜互连阻挡层抛光液，其特征在于，所述pH值调节剂为硝酸钾、硝酸、盐酸、氢氧化钾、四乙基氢氧化铵、四甲基氢氧化铵中的任一种。

6.根据权利要求1所述的多层铜互连阻挡层抛光液，其特征在于，所述螯合剂为FA/OII型螯合剂或柠檬酸；所述表面活性剂为FA/O表面活性剂或FA/O表面活性剂与十二烷基二甲基氧化胺的混合液；所述杀菌剂为甘氨酸铜；所述pH值调节剂采用浓度为40％的KOH或浓度为10％的硝酸。

7.一种权利要求1所述多层铜互连阻挡层抛光液的制备方法，其特征在于，包括下述步骤：将螯合剂和表面活性剂加入适量去离子水中搅拌均匀，再边搅拌边加入杀菌剂，直至完全溶解，然后与硅溶胶混合，搅拌均匀，用去离子水补充余量，最后用pH值调节剂调节pH值至7.5—11。