[发明专利]显示设备在审
| 申请号: | 202011215214.2 | 申请日: | 2020-11-04 | 
| 公开(公告)号: | CN112786660A | 公开(公告)日: | 2021-05-11 | 
| 发明(设计)人: | 李东敏;杨受京;宋都根;申铉亿 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 | 
| 主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32 | 
| 代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 袁媛;康泉 | 
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 显示 设备 | ||
1.一种显示设备,包括:
基板;
在所述基板上的薄膜晶体管,所述薄膜晶体管包括:
第一半导体层;和
与所述第一半导体层重叠的第一栅电极,
其中第一栅绝缘层设置在所述第一半导体层和所述第一栅电极之间;
存储电容器,所述存储电容器包括:
下电极,所述下电极包括彼此堆叠的第一下层和第一上层;和
上电极,所述上电极包括彼此堆叠的第二下层和第二上层,
其中所述上电极与所述下电极重叠,并且第二栅绝缘层设置在所述上电极和所述下电极之间;以及
显示元件,所述显示元件电连接至所述薄膜晶体管,
其中所述第二上层具有大于所述第一上层的厚度的厚度。
2.如权利要求1所述的显示设备,其中所述下电极和所述第一栅电极包括相同的材料。
3.如权利要求1所述的显示设备,其中:
所述第一上层的所述厚度在40nm至60nm的范围内,
所述第二上层的所述厚度在40nm至140nm的范围内,并且
所述第一下层和所述第二下层中的至少一个具有在130nm至1000nm的范围内的厚度。
4.如权利要求1所述的显示设备,其中所述第一上层和所述第二上层包括钽。
5.如权利要求1所述的显示设备,其中所述第一下层和所述第二下层各自包括包含第一元素和铝的铝合金,并且相对于所述铝合金,所述第一元素的量为0.1at%或更少。
6.如权利要求5所述的显示设备,其中:
所述铝合金包括不同于所述第一元素的第二元素,并且
相对于所述铝合金,所述第一元素和所述第二元素的总量为0.1at%或更少。
7.一种显示设备,包括:
基板;
在所述基板上的第一薄膜晶体管,所述第一薄膜晶体管包括:
第一半导体层;和
与所述第一半导体层重叠的第一栅电极,
其中第一栅绝缘层设置在所述第一半导体层和所述第一栅电极之间;以及
显示元件,所述显示元件电连接至所述第一薄膜晶体管,其中:
所述第一栅电极包括彼此堆叠的第三下层和第三上层,
所述第三下层包括包含第一元素和铝的铝合金,并且
相对于所述铝合金,所述第三下层的所述第一元素的量为0.1at%或更少。
8.如权利要求7所述的显示设备,进一步包括在所述基板上的第二薄膜晶体管,所述第二薄膜晶体管包括:
第二半导体层;
与所述第二半导体层重叠的第二栅电极,
其中所述第一栅绝缘层设置在所述第二半导体层和所述第二栅电极之间,其中:
所述第二栅电极包括彼此堆叠的第四下层和第四上层,
所述第四下层包括包含所述第一元素和铝的铝合金,并且
相对于所述铝合金,所述第四下层的所述第一元素的量为0.1at%或更少。
9.如权利要求8所述的显示设备,其中所述第三上层具有大于所述第四上层的厚度的厚度。
10.如权利要求8所述的显示设备,其中所述第三上层和所述第四上层包括钽。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





