[发明专利]管状工件镀膜机在审
申请号: | 202011187817.6 | 申请日: | 2020-10-30 |
公开(公告)号: | CN112458421A | 公开(公告)日: | 2021-03-09 |
发明(设计)人: | 唐洪波;左莉;黄乐;祝海生;孙桂红;黄国兴 | 申请(专利权)人: | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50;C23C14/35 |
代理公司: | 湖南乔熹知识产权代理事务所(普通合伙) 43262 | 代理人: | 安曼 |
地址: | 411100 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 管状 工件 镀膜 | ||
本发明公开一种管状工件镀膜机,管状工件镀膜机包括内部具有镀膜腔的镀膜仓、滑动设置在所述镀膜腔内的工件架以及与所述工件架连接以驱动所述工件架沿所述镀膜仓的长度方向滑动的第一驱动电机,所述工件架上承载有至少一管状工件,沿所述镀膜仓的长度方向上间隔设置有多个阴极,所述管状工件镀膜机还包括设置在所述镀膜腔内的第二驱动电机,所述第二驱动电机与所述工件架连接以驱动所述工件架饶其自身轴线旋转。本发明提供了一种适用于管状工件的镀膜机。
技术领域
本发明涉及真空镀膜领域,尤其涉及一种管状工件镀膜机。
背景技术
真空镀膜是目前较为前沿的镀膜技术,而真空镀膜中的磁控溅射镀膜法采用通过通电阳极放出电子,并使电子在电场的加速作用下与真空腔内的气体分子碰撞,从而使气体分子电离,而电离的气体分子又在电场的作用下轰击阴极上的金属粒子,使金属粒子电离溅射,并使得电离出来的金属离子沉积于靶材表面形成薄膜,其中为了使电子能够更加高效的与气体分子进行碰撞,从而提高气体分子电离率,采用在阴极内部装入磁铁形成磁控阴极,因此电子在电场及磁场的共同作用下,将会在真空腔内形成螺旋式轨迹来增加电子与气体分子的碰撞概率。
然而在针对管状工件镀膜时,由于在将其水平放置且处于真空环境镀膜时,难以将其旋转使其镀膜更为均匀,并且由于管状工件长度较长,会产生变形,因而会导致在针对管状工件镀膜时,可能镀膜半个圆周后,需要再次取出更换为另外半个圆周面进行镀膜,极大地降低了管状工件的镀膜效率。
发明内容
本发明的主要目的是提供一种管状工件镀膜机,旨在提高管状工件的镀膜效率。
为实现上述目的,本发明提出的一种管状工件镀膜机包括内部具有镀膜腔的镀膜仓、滑动设置在所述镀膜腔内的工件架以及与所述工件架连接以驱动所述工件架沿所述镀膜仓的长度方向滑动的第一驱动电机,所述工件架上承载有至少一管状工件,沿所述镀膜仓的长度方向上间隔设置有多个阴极,所述管状工件镀膜机还包括设置在所述镀膜腔内的第二驱动电机,所述第二驱动电机与所述工件架连接以驱动所述工件架饶其自身轴线旋转。
在一实施例中,所述工件架包括上安装板以及下安装板,所述上安装板安装在所述镀膜仓的内部顶壁上,所述下安装板安装在所述镀膜仓的内部底壁上,所述管状工件的上下两端分别与所述上安装板和所述下安装板的相对两内壁面抵靠。
在一实施例中,所述管状工件镀膜机包括滑动组件,所述滑动组件包括上滑轨以及下滑轨,所述上滑轨设置在所述镀膜仓的内部顶壁和所述上安装板之间,所述下滑轨设置在所述镀膜仓的内部底壁和所述下安装板之间,所述第一驱动电机与所述上安装板或所述下安装板连接,以驱动所述上安装板和所述下安装板分别在所述上滑轨和所述下滑轨上滑动。
在一实施例中,所述滑动组件还包括两个直线滑轨,其中一所述直线滑轨设置在所述上滑轨和所述上安装板之间,另外一所述直线滑轨设置在所述下滑轨和所述下安装板之间。
在一实施例中,所述管状工件镀膜机包括旋转轴,所述第二驱动电机与所述旋转轴连接以驱动所述旋转轴饶其自身轴线旋转,所述旋转轴的上下两端分别卡持在所述上安装板和所述下安装板上,以通过所述第二驱动电机驱动所述旋转轴饶其自身轴线旋转带动所述工件架旋转。
在一实施例中,所述旋转组件还包括轴承座,所述轴承座套装在所述旋转轴的外壁面上,所述轴承座上安装有多个轴承。
在一实施例中,所述管状工件镀膜机还包括旋转组件,所述旋转组件包括第三驱动电机以及安装夹具,所述第三驱动电机与所述安装夹具分别安装在所述旋转轴的相对两侧面上,所述第三驱动电机穿设所述旋转轴与所述安装夹具连接以驱动所述安装夹具绕所述第三驱动电机的输出轴的延伸方向旋转,所述管状工件的端部卡持在所述安装夹具上。
在一实施例中,所述管状工件镀膜机还包括真空抽取系统,所述真空抽取系统与所述镀膜仓的镀膜腔连通以抽取所述镀膜腔内的气体。
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