[发明专利]一种太阳能电池衬底的转移方法在审
申请号: | 202011187739.X | 申请日: | 2020-10-30 |
公开(公告)号: | CN112018216A | 公开(公告)日: | 2020-12-01 |
发明(设计)人: | 吴洪清;米万里;李俊承;杨文斐;孙志泉 | 申请(专利权)人: | 南昌凯迅光电有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 南昌金轩知识产权代理有限公司 36129 | 代理人: | 孙文伟 |
地址: | 330000 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 太阳能电池 衬底 转移 方法 | ||
本发明公开了一种太阳能电池衬底的转移方法,包括以下步骤,S1、电池结构生长,S2、电池外延层、柔性衬底的表面进行金属键合层蒸镀,S3、临时衬底制作,S4、临时衬底键合层蒸镀,S5、衬底转移,S6、衬底去除,S7、器件制作,S8、退火,S9、临时衬底转移,S10、划片、测试。本发明工艺简单,操作方便,不仅能有效地解决薄膜电池剥离后临时键合胶粘结不牢问题,带胶清洁困难,带胶不易合金退火问题,柔性衬底与外延层膨胀系数不匹配,而引起的电池表面鼓泡、失效的问题,并且能够降低电池成本,提高了该电池的良品率。
技术领域
本发明涉及太阳能电池的技术领域,具体为一种太阳能电池衬底的转移方法。
背景技术
砷化镓薄膜太阳电池各结电池带隙较好的匹配全光谱,有助于太阳光的充分吸收,使得其光电转换效率远远领先于其他太阳电池,且其质量轻、易弯曲的特性,受到航天、航空等空间电源系统的高度依赖。平流层飞艇和太阳能无人机,主要用于通讯、资源勘探和军事侦查等领域,由于其白昼滞空时间长、灵活机动强和覆盖区域大等需求,砷化镓薄膜电池作为一个不可替代的选择。提高砷化镓太阳电池转化效率、降低电池面密度、电池成本迫不及待,尤其衬底剥离重复和转移衬底工艺是当前的一个技术难题,因此各高等院校、研究所、企事业单位以此作为攻关的重点方向。
以下为目前砷化镓柔性薄膜电池普遍做法,主要步骤如下:
(1)外延生长:
采用MOCVD设备在GaAs衬底上依次生长N-GaAs的缓冲层、AlAs牺牲层、GaInP腐蚀截止层、N-GaAs接触层、GaInP顶电池、第一隧穿结、GaAs中电池、第二隧穿结、InGaAs底电池和P-InGaAs接触层完成外延片的生长;
(2)电镀金属衬底
将生长好的倒置结构太阳电池经过刻号、清洗,采用磁控溅射或者电子束依次蒸镀Ti、Pd和Au层打底,再将蒸镀完的电池表面电镀沉积一层铜衬底,厚度约20~25um;
(3)衬底剥离:
把镀铜一面粘合在具有一定支撑力的柔性材料,采用设计的剥离装置,用氢氟酸水溶液浸泡,腐蚀倒置结构中AlAs牺牲层,直到电池的外延层和衬底完全分离;
(4)临时键合、衬底抛光
将剥离下来的电池片,采用键合胶bonding到刚性支撑衬底;分离后的砷化镓衬底经过研磨粗抛、精抛光以备二次外延生长;
(5)电极制作:
采用负性光刻胶工艺光刻电极栅线图形,用电子束和热阻真空蒸镀的方式,在顶电池欧姆接触层上制备金属电极,并通过有机剥离将完成上电极制作;将完成选择性腐蚀的电池片,采用电子束蒸镀的方法蒸镀TiOx/Al203双层减反射膜;
(6)解键合
芯片器件工艺制作完成,通过加热或激光解键合,分离临时支撑衬底,清洗干净以备下一道工序。
(7)退火、划片、测试完成铜衬底支撑的柔性太阳电池芯片制作;
现有技术缺点在于:
技术步骤(2)中,铜衬底膨胀系数约为电池外延层3倍,且铜厚度较厚,经过高低温后应力释放,电池外延层容易碎裂,电池光电性能失效;
技术步骤(3)中,对专业衬底剥离设备依赖很强,目前暂无适合于产业化剥离的设备,剥离时间相当长,大约每片剥离时间6~10小时;另外,剥离时间长电池表面容易受腐蚀,影响产品良品率,不利于规模化生产;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南昌凯迅光电有限公司,未经南昌凯迅光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011187739.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的