[发明专利]模型贴地处理方法、装置、存储介质与电子设备

说明书

本公开提供一种模型贴地处理方法、装置、存储介质与电子设备，涉及计算机技术领域。其中，所述模型贴地处理方法包括：获取场景中目标区域的基准点的地形高度值；根据待贴地模型中的采样点与各所述基准点的距离，对各所述基准点的地形高度值进行加权，得到所述采样点的高度值；根据所述采样点的高度值，将所述待贴地模型贴至所述目标区域。本公开能够实现模型贴地的拟真效果，并简化模型贴地的处理流程，降低资源消耗。

技术领域

本公开涉及计算机技术领域，尤其涉及一种模型贴地处理方法、模型贴地处理装置、计算机可读存储介质与电子设备。

背景技术

模型贴地是指将平面模型贴合至场景中具有高低起伏状态的区域表面。在传统的三维渲染管线当中，模型在送入管线处理之前，形态已经被固定，当地面的起伏状态变化时，模型与地面无法贴合，会产生画面失真的问题。

需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本公开提供了一种模型贴地处理方法、装置、计算机可读存储介质与电子设备，进而至少在一定程度上改善模型与地面无法贴合导致的画面失真的问题。

本公开的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然，或部分地通过本公开的实践而习得。

根据本公开的第一方面，提供一种模型贴地处理方法，包括：获取场景中目标区域的基准点的地形高度值；根据待贴地模型中的采样点与各所述基准点的距离，对各所述基准点的地形高度值进行加权，得到所述采样点的高度值；根据所述采样点的高度值，将所述待贴地模型贴至所述目标区域。

在本公开的一种示例性实施例中，所述待贴地模型中的采样点与各所述基准点的距离，通过以下方式确定：获取所述待贴地模型中的采样点与各所述基准点在同一坐标系中的位置坐标；确定所述采样点的位置坐标与各所述基准点的位置坐标之间距离。

在本公开的一种示例性实施例中，所述方法还包括：设置所述待贴地模型的包围盒；以所述包围盒的尺寸为单位坐标，确定相对坐标系；所述获取所述待贴地模型中的采样点与各所述基准点在同一坐标系中的位置坐标，包括：将所述待贴地模型映射至所述包围盒内，确定所述采样点在所述相对坐标系中的位置坐标；将各所述基准点映射至所述包围盒内，确定各所述基准点在所述相对坐标系中的位置坐标。

在本公开的一种示例性实施例中，所述坐标系为平面坐标系。

在本公开的一种示例性实施例中，所述根据待贴地模型中的采样点与各所述基准点的距离，对各所述基准点的地形高度值进行加权，得到所述采样点的高度值，包括：根据所述采样点与各所述基准点的距离确定各所述基准点相对于所述采样点的权重值；利用各所述基准点相对于所述采样点的权重值，对各所述基准点的地形高度值进行加权，得到所述采样点的高度值。

在本公开的一种示例性实施例中，所述根据采样点与各所述基准点的距离确定各所述基准点相对于所述采样点的权重值，包括：根据参考距离与所述采样点到任一基准点的距离，确定所述任一基准点相对于所述采样点的权重值。

在本公开的一种示例性实施例中，所述根据参考距离与所述采样点到任一基准点的距离，确定所述任一基准点相对于所述采样点的权重值，包括确定所述采样点到所述任一基准点的距离，以作为第一距离；根据所述第一距离与缩放系数，确定第二距离；根据所述参考距离与所述第二距离，确定所述任一基准点相对于所述采样点的权重值。

在本公开的一种示例性实施例中，所述缩放系数，通过以下方式确定：根据所述基准点的数量确定所述缩放系数。

在本公开的一种示例性实施例中，所述根据所述第一距离与缩放系数，确定第二距离，包括：将所述第一距离与所述缩放系数之积确定为所述第二距离。