[发明专利]一种阻隔膜及其制备方法

说明书

本发明属于薄膜技术领域，涉及一种阻隔膜及其制备方法，包括上下布设的上光学基膜和下光学基膜；所述上光学基膜的一面涂布有防粘连层，另一面涂布有高分子聚合层；所述下光学基膜的一面涂覆有水氧阻隔层，另一面涂布有预涂层；所述水氧阻隔层贴合于所述高分子聚合层。本申请的技术方案能减少水氧分子从侧面及端面进入阻隔膜内部，从而保证了阻隔膜的阻隔性能，本申请还提供了阻隔膜的制备方法，生产工艺简单，有利于降低生产成本。

技术领域

本发明属于薄膜技术领域，涉及一种阻隔膜及其制备方法。

背景技术

通过将量子点材料制备成量子点膜应用在显示器的背光模组中，可以提高显示器色域和色彩饱和度，但是量子点材料对外界的水汽和氧气非常敏感，非常容易衰减，故在量子点膜的实际应用中，需要良好的阻隔性能，以保证量子点膜在使用过程中的稳定性。

目前，一般量子点膜中应用于保护量子点层的阻隔膜都是在薄膜上使用PVD或PECVD方法沉积一层氧化硅或氧化铝，用来隔绝空气中的水和氧气，沉积的无机阻隔层，附着力低且容易脱落，制造成本较高且工艺复杂。

现有技术也有阻隔膜，如专利(CN1068333304A)所述包括从上至下依次设置的上层保护膜层、硬化层、第一PET层、阻隔胶层、第二PET层、量子点胶活化层、以及下层保护膜层；所述量子点胶活化层为含有半导体纳米粒子的丙烯酸光固胶液层，所述阻隔胶层为PVDC改性树脂层，所述PVDC改性树脂层包括如下重量份的组分：PVDC10～20份，所述量子点胶活化层由涂布和UV固化工艺制备而成。

但申请人在实际应用中发现现有技术的阻隔膜仍然存在如下技术问题：第一、PET本身的阻隔性能较低；第二、上述阻隔膜通过多层复合、加纳米粒子得到的，增加了其生产成本。

发明内容

本申请提供一种阻隔膜及其制备方法，有效解决了复合阻隔膜生产成本高、阻隔效率低的问题。

为实现上述技术目的，本申请采取的技术方案为：一种阻隔膜，包括上下布设的上光学基膜和下光学基膜；

所述上光学基膜的一面涂布有防粘连层，另一面涂布有高分子聚合层；

所述下光学基膜的一面涂覆有水氧阻隔层，另一面涂布有预涂层；

所述水氧阻隔层贴合于所述高分子聚合层。

作为本申请改进的技术方案，所述高分子聚合层包括如下重量份的各成份：

高分子聚合物：9.05～52.08份；

有机溶剂：46.88～90.5份；

流平剂：0.45～1.04份；

所述高分子聚合物为聚四氟乙烯、聚三氟氯乙烯、聚偏氟乙烯、乙烯-四氟乙烯共聚物、聚氟乙烯中的一种或任意重量比的多种；其中，聚四氟乙烯分子量介于20000～500000；聚三氟氯乙烯分子量介于10000～300000、聚偏氟乙烯分子量介于50000～500000、乙烯-四氟乙烯共聚物分子量介于100000～400000、聚氟乙烯分子量介于200000～500000。

作为本申请改进的技术方案，所述有机溶剂为乙酸乙酯、甲苯、N,N-二甲基甲酰胺中的一种或任意重量比的多种。

作为本申请改进的技术方案，所述高分子聚合层的流平剂为氟系流平剂。

作为本申请改进的技术方案，所述水氧阻隔层包括如下重量份的各成份：

压敏胶：26.3～52.65份；

有机溶剂：23.67～47.34份；

固化剂：0.019～0.038份。

所述压敏胶为热固型丙烯酸酯类压敏胶，其固含量5％～50％；