[发明专利]一种谐振子膜层厚度分布及均匀程度修正方法

权利要求书

1.一种谐振子膜层厚度分布及均匀程度修正方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1、获取镀膜设备和镀膜工件的三维数据，确定影响镀膜结果的工艺参数；其中，所述镀膜工件为半球谐振子，所述工艺参数至少包括所述镀膜设备的镀膜源与所述镀膜工件之间的相对位置；

S2、在有限元仿真软件中，根据获取的三维数据建立所述镀膜工件及有效镀膜区域的三维模型；在三维模型中，对镀膜工件待镀膜的镀膜面沿径向分布划分网格，依据测量的三维数据及所述工艺参数的范围添加约束条件；

S3、通过有限元仿真，求解以不同工艺参数进行镀膜后，在镀膜工件上对应得到的膜层厚度分布及均匀程度数据；

S4、将各组不同的工艺参数和对应的膜层厚度分布及均匀程度数据组成样本数据组，存入数据库；

S5、根据实际镀膜所需设定膜层厚度及均匀程度指标，在所述数据库中检索，得到匹配或部分匹配膜层厚度及均匀程度指标的样本数据组，并进行筛选，依据筛选后的样本数据组中的工艺参数，向镀膜设备发出前馈控制信号，设置镀膜设备，设置完成后开始镀膜；

S6、在镀膜过程中，通过传感器实时监测得到的膜层厚度及均匀程度结果，在完成预设时间段内的镀膜后，将实际得到的膜层厚度及均匀程度结果与设定的膜层厚度及均匀程度指标进行对比；若存在偏差，则重新检索所述数据库，检索匹配或部分匹配偏差的样本数据组，并进行筛选，依据筛选后的样本数据组中的工艺参数，向镀膜设备发出反馈控制信号，调整镀膜设备，调整完成后继续镀膜；若不存在偏差，则完成镀膜；

S7、重复执行上述步骤S6，直至完成镀膜；

其中，所述步骤S3中，通过有限元仿真求解膜层厚度分布及均匀程度数据时，将镀膜过程设置为各向均一的粒子沿镀膜方向，以设定速度沉积在镀膜面，利用所述约束条件确定仿真计算的边界，按照划分的网格进行计算，以粒子数量分布情况代表得到膜层厚度分布及均匀程度数据；

所述步骤S5中，在所述数据库中检索，得到匹配或部分匹配膜层厚度及均匀程度指标的样本数据组，并进行筛选时，

若存在与膜层厚度及均匀程度指标匹配的样本数据组，则筛选出该匹配的样本数据组，否则筛选出膜层厚度分布数据不超出膜层厚度指标，且膜层均匀程度数据最接近膜层均匀程度指标的样本数据组；

所述步骤S6中，重新检索所述数据库，得到匹配或部分匹配偏差的样本数据组，并进行筛选时，

若存在与偏差匹配的样本数据组，则筛选出该匹配的样本数据组，否则筛选出膜层厚度分布数据不超出偏差中的厚度分布，且膜层均匀程度数据最接近偏差中的膜层均匀程度的样本数据组。

2.根据权利要求1所述的谐振子膜层厚度分布及均匀程度修正方法，其特征在于：

所述步骤S1中获取的三维数据至少包括：镀膜源几何尺寸、镀膜范围、镀膜源位置、镀膜工件位置、镀膜工件几何尺寸。

3.根据权利要求1所述的谐振子膜层厚度分布及均匀程度修正方法，其特征在于：

所述步骤S1中，所述工艺参数还包括镀膜工件的自转角度、摆动角度。

4.根据权利要求1所述的谐振子膜层厚度分布及均匀程度修正方法，其特征在于：

所述步骤S6中，在完成预设时间段的镀膜后，还包括：

将实际得到的膜层厚度及均匀程度结果，与设置镀膜设备时所依据的样本数据组中的膜层厚度分布及均匀程度数据进行比较；若存在误差且超过预设误差值，则返回步骤S1；若存在误差但不超过预设误差值，则根据实际得到的膜层厚度及均匀程度结果，修正设置镀膜设备时所依据的样本数据组，更新所述数据库。

5.根据权利要求1所述的谐振子膜层厚度分布及均匀程度修正方法，其特征在于：

所述步骤S7还包括将所有依据的样本数据组按执行顺序排列，以排列后的各样本数据组作为一个组合，构成新的样本数据组，存入所述数据库。