[发明专利]一种超低阻值透明导电基板

说明书

本发明公开了一种超低阻值透明导电基板，包括：基板、第一导电层、纳米银线导电层和保护层，第一导电层设置于基板的顶端，纳米银线导电层设置于第一导电层的顶端，保护层设置于纳米银线导电层的顶端。本发明将导电金属氧化物、纳米金属膜层、纳米银线叠层起来，提出一种复合导电层结构，同时保证了低电阻和优良的光学特性。

技术领域

本发明属于透明导电基板制作技术领域，更具体的说是涉及一种超低阻值透明导电基板。

背景技术

目前，最常用的透明导电基板是氧化铟锡基板，其他如纳米银线、金属网格、石墨烯、碳纳米管、导电高分子等透明导电基板，氧化铟锡导电膜的方阻基本在100Ω/□以上，氧化铟锡玻璃最低方阻可以做到10Ω/□，可见光透过率85％左右；纳米银线透明导电基板在可见光透过率80％以上时，方阻可以做到10Ω/□左右，但是雾度较大，大于3％；金属网格可以把方阻做到Ω/□左右，但是透过率不高，网格线可见、色度偏差较大、易容易出现网格干涉条纹；石墨烯、碳纳米管、导电高分子等导电基板的方阻都不易做低，一般在100Ω/□以上。

因此，如何提供一种超低阻值透明导电基板是本领域技术人员亟需解决的问题。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种超低阻值透明导电基板，将导电金属氧化物、纳米金属膜层、纳米银线叠层起来，提出一种复合导电层结构，同时保证了低电阻和优良的光学特性。

为了实现上述目的，本发明采用如下技术方案：

一种超低阻值透明导电基板，包括：基板、第一导电层、纳米银线导电层和保护层，所述第一导电层设置于所述基板的顶端，所述纳米银线导电层设置于所述第一导电层的顶端，所述保护层设置于所述纳米银线导电层的顶端。

优选的，还包括第二导电层，所述第二导电层位于所述第一导电层与所述纳米银线导电层之间。

优选的，还包括附着膜层，所述附着膜层设置于所述第二导电层与所述纳米银线导电层之间。

优选的，还包括底涂层，所述底涂层设置于所述基板与所述第一导电层之间。

优选的，所述基板包括光学玻璃、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚酰亚胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、环烯烃聚合体、三醋酸纤维素中的一种。

优选的，所述底涂层采用二氧化硅、二氧化钛、氧化锆或氧化铋作为膜层，厚度1nm～30nm，采用溅射或者涂布的方法制作而成。

优选的，所述第一导电层和所述第二导电层均采用透明金属膜层或金属氧化物，透明金属膜层选择金、银或铜，膜层厚度5nm～30nm，金属氧化物选择氧化铟锡、氧化锌或氧化铟锌，膜层厚度5nm～30nm。采用溅射的方法制作而成。

优选的，所述附着膜层采用二氧化硅、二氧化钛、氧化锆或氧化铋作为膜层，厚度1nm～30nm，采用溅射或者涂布的方法制作而成。

优选的，纳米银线导电层的制备方法为：

首先将纳米银线配制成初始悬浮液，向纳米银线初始悬浮液添加添加剂，其中添加剂包括溶剂、粘合剂、表面活性剂和分散剂；将添加剂加入纳米银线初始悬浮液中，配成涂布纳米银线油墨，粘度20cP～100cP，其中纳米金属银的含量为0.1～5％；粘合剂的含量为0.1～1％；表面活性剂的含量0.01～0.1％；分散剂的含量0.1～2％；

然后将配好的纳米银线油墨以旋涂、狭缝式涂布、微凹板式涂布或喷涂方式涂布至基板上，再放进烘箱中100度烘烤2分钟～5分钟，得到干燥的纳米银线导电层。

优选的，保护层采用二氧化硅、二氧化钛、水性聚碳酸型聚氨酯树脂或三羟基三聚氰胺树脂作为膜层，厚度10nm～1um，采用涂布的方法制作而成。

优选的，保护层采用二氧化硅或二氧化钛作为膜层的制备方法为：