[发明专利]一种改良式真空灭弧室

权利要求书

1.一种改良式真空灭弧室，包括绝缘壳、设置于绝缘壳一端的静触头、活动设置于绝缘壳另一端的动触头，静触头的一端设有位于绝缘壳内的第一触头，动触头的一端设有位于绝缘壳内的第二触头，第一触头用于导通或断开第二触头，静触头的另一端、动触头的另一端分别用于导通外界的两个导体；其特征在于：还包括波纹管、屏蔽筒、第一焊料环、第二焊料环、第三焊料环及第四焊料环，波纹管、屏蔽筒位于绝缘壳内，波纹管套设在动触头的外侧，第一焊料环、第二焊料环环绕动触头设置，第一焊料环用于焊接密封波纹管的一端与绝缘壳之间的间隙，第二焊料环用于焊接密封波纹管的另一端与动触头之间的间隙；屏蔽筒环绕套设在第一触头外侧及第二触头外侧，第三焊料环用于焊接屏蔽筒及绝缘壳；第四焊料环用于焊接密封静触头与绝缘壳之间的间隙。

2.根据权利要求1所述的改良式真空灭弧室，其特征在于：绝缘壳包括第一端盖、第二端盖、中心筒、第五焊料环、第六焊料环，第五焊料环焊接密封第一端盖与中心筒的一端，第六焊料环焊接密封第二端盖与中心筒的另一端，第三焊料环焊接中心筒与屏蔽筒；动触头滑动设置于第一端盖，动触头贯穿第一端盖，动触头、静触头共线设置，第一焊料环焊接密封波纹管的一端与第一端盖；静触头设置于第二端盖，静触头贯穿第二端盖，第四焊料环焊接密封静触头与第二端盖。

3.根据权利要求2所述的改良式真空灭弧室，其特征在于：波纹管包括波纹本体、设置于波纹本体一端的第一突圈，第一突圈环绕动触头设置；绝缘壳设有用于容设第一突圈的第一盲槽，第一焊料环位于第一盲槽内。

4.根据权利要求3所述的改良式真空灭弧室，其特征在于：动触头具有圆盘体，圆盘体环绕动触头的中心轴线设置，圆盘体具有环绕动触头的中心轴线的第二盲槽；波纹管包括设置于波纹本体另一端的第二突圈，第二突圈环绕动触头设置，第二突圈容设在第二盲槽内，第二焊料环用于焊接密封第二突圈与圆盘体。

5.根据权利要求1所述的改良式真空灭弧室，其特征在于：绝缘壳设有第三盲槽，第三盲槽自绝缘壳的内表面凹设而成，第三盲槽环绕绝缘壳的中心轴线设置；屏蔽筒设有第三突圈，第三突圈环绕屏蔽筒的中心轴线设置，第三突圈容设在第三盲槽内，第三盲槽的内侧面用于挡止抵触第三突圈，第三焊料环位于第三盲槽内。

6.根据权利要求1所述的改良式真空灭弧室，其特征在于：静触头设有第四突圈，第四突圈环绕静触头的中心轴线设置；绝缘壳设有第四盲槽，第四盲槽自绝缘壳的外表面凹设而成，第四突圈没入第四盲槽内，第四盲槽的底壁用于挡止抵触第四突圈；第四焊料环位于第四盲槽内，第四焊料环位于第四突圈与第四盲槽的底壁之间。

7.根据权利要求2所述的改良式真空灭弧室，其特征在于：动触头设有非圆部，绝缘壳设有用于容设非圆部的非圆孔，非圆部滑动容设在非圆孔内，非圆孔的内孔面用于挡止抵触非圆部的外表面；静触头的另一端位于绝缘壳外并设有用于容设一个导体的内螺纹孔；动触头的另一端位于绝缘壳外并设有用于导通另一个导体的外螺纹部。

8.根据权利要求1所述的改良式真空灭弧室，其特征在于：第一触头及第二触头均包括本体部、与本体部连接的平板部，第一触头的平板部用于导通或断开第二触头的平板部；本体部设有盲孔，平板部用于遮盖盲孔的开口，本体部设有多个弧形槽体，弧形槽体贯穿本体部的侧壁，弧形槽体沿本体部的中心轴线并沿本体部的周向方向延伸设置，多个弧形槽体围绕本体部的中心轴线设置；平板部设有贯穿平板部的多个直条槽体，多个直条槽体围绕平板部的中心轴线设置，多个直条槽体分别连通多个弧形槽体。

9.根据权利要求8所述的改良式真空灭弧室，其特征在于：第一触头及第二触头还包括位于盲孔内的支撑环，支撑环的两端分别焊接至平板部及盲孔的底壁，直条槽体连通支撑环与盲孔的内侧面之间的间隙；平板部具有贯穿平板部的中心孔，中心孔用于连通支撑环的内孔。

10.根据权利要求8所述的改良式真空灭弧室，其特征在于：第一触头及第二触头还包括第七焊料环，第七焊料环位于本体部与平板部之间，本体部、平板部经由第四焊料环焊接在一起。