[发明专利]一种阵列基板及其维修方法和显示面板有效

专利信息
申请号: 202011157875.4 申请日: 2020-10-26
公开(公告)号: CN112349205B 公开(公告)日: 2022-09-27
发明(设计)人: 李云;江鹏;方冲 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;武汉京东方光电科技有限公司
主分类号: G09F9/30 分类号: G09F9/30;G02F1/1362;G02F1/1343
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 姜春咸;冯建基
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 阵列 及其 维修 方法 显示 面板
【说明书】:

发明提供一种阵列基板及其维修方法和显示面板。该阵列基板包括基底和设置在基底上的至少一个故障子像素;故障子像素包括第一开关管、像素电极、公共电极和公共电极线,像素电极和公共电极叠置于基底上并相互绝缘,第一开关管包括栅极、第一极和第二极;第二极包括第一子部和第二子部,第一子部与第二子部相互断开;第一子部与第一极电连接,第二子部与像素电极电连接;公共电极与公共电极线电连接;故障子像素还包括第二电极线,第二电极线设置于像素电极和公共电极中更加远离基底的一个上,第二电极线、第二极和公共电极线不同层,且第二电极线与第二子部和公共电极线分别电连接。该阵列基板能提升其中故障子像素的维修成功率。

技术领域

本发明属于显示技术领域,具体涉及一种阵列基板及其维修方法和显示面板。

背景技术

在阵列基板的制作过程中,受制作工艺条件的限制,灰尘等异物颗粒不可避免地会粘附在第一金属层的表面,这些异物颗粒有可能刺穿设置于第一金属层上的绝缘层,造成绝缘层破损。在绝缘层上制作第二金属层时,刻蚀液会从绝缘层的破损处流入并腐蚀第一金属层,从而导致第一金属层的不同导电电极之间的短路,影响产品性能,如阵列基板上开关管TFT的源极和漏极之间发生短路,造成子像素亮点不良。

目前针对子像素亮点的修复办法是:如图1和图2所示,在出现不良的子像素的开关管源极3处切断,孤立子像素的像素电极22;再将分别位于不同层上的像素电极22和公共电极23线短接到一起,将亮点不良修复为暗点。但存在的问题是:子像素设计时公共电极23和像素电极22均为薄金属层(如厚度通常小于),熔融将像素电极22和公共电极23短接的成功率较低。如将位于相对上层的较薄的像素电极22通过熔融的方式与位于相对下层的较厚的公共电极线24电连接,由于像素电极22的厚度较薄,所以其熔融与公共电极线24连接时容易出现连接失败,导致像素电极22与公共电极线24未接通,从而导致子像素亮点无法成功修复为暗点,影响产品显示。

发明内容

本发明针对阵列基板子像素亮点修复成功率低的问题,提供一种阵列基板及其维修方法和显示面板。该阵列基板能够将像素电极和公共电极中更加远离基底的一个局部加厚,从而在将像素电极和公共电极通过熔融进行短接时,能够实现将两个较薄金属层之间的熔融变更为两个较厚金属之间的熔融,从而提升了故障子像素的维修成功率。

本发明提供一种阵列基板,包括基底和设置在所述基底上的至少一个故障子像素;

所述故障子像素包括第一开关管、像素电极、公共电极和公共电极线,所述像素电极和所述公共电极叠置于所述基底上并相互绝缘,且所述像素电极和所述公共电极在所述基底上的正投影至少部分重叠;

所述第一开关管包括栅极、第一极和第二极;所述第二极包括第一子部和第二子部,所述第一子部与所述第二子部相互断开;所述第一子部与所述第一极电连接,所述第二子部与所述像素电极电连接;

所述公共电极与所述公共电极线电连接;

所述故障子像素还包括第二电极线,所述第二电极线设置于所述像素电极和所述公共电极中更加远离所述基底的一个上,所述第二电极线、所述第二极和所述公共电极线不同层,且所述第二电极线与所述第二子部和所述公共电极线分别电连接。

可选地,所述第二电极线的厚度范围为

可选地,所述第二电极线的材料包括钨。

可选地,所述第二极的厚度范围为所述公共电极线的厚度范围为

可选地,还包括设置于所述基底上的正常子像素;所述正常子像素与所述故障子像素共同排布呈阵列;

所述公共电极线沿所述阵列的行方向延伸或者沿所述阵列的列方向延伸。

可选地,所述阵列基板包括透光区和不透光区;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;武汉京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;武汉京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011157875.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top