[发明专利]换能装置、换能结构及其制造方法

权利要求书

1.一种换能结构，其特征在于，包括：

一基板；

一第一电极，配置于该基板上；

一无机层，位于该第一电极上，其中该无机层具有一下振荡部、多个上孔洞及多个下孔洞，该多个上孔洞位于该下振荡部的两侧；

一第一绝缘层，包括一上振荡部及多个第一绝缘部，其中该上振荡部位于该下振荡部之上，该多个第一绝缘部分别填入该多个下孔洞中且位于该第一电极上，且该第一电极、该多个第一绝缘部及该下振荡部共同形成一空腔；

多个第二绝缘部，分别位于该多个第一绝缘部上，其中该多个第二绝缘部分别通过该多个上孔洞接触该多个第一绝缘部，且该多个第二绝缘部的材料和该多个第一绝缘部的材料不同；以及

一第二电极，位于该上振荡部之上，其中该空腔位于该第一电极及该第二电极之间。

2.如权利要求1所述的换能结构，其特征在于，该多个第二绝缘部包括有机材料。

3.如权利要求1所述的换能结构，其特征在于，该无机层的厚度为3000埃至9000埃。

4.如权利要求1所述的换能结构，其特征在于，该第一绝缘层还包括一侧壁部，该侧壁部位于该无机层的该多个上孔洞的侧壁上，使得该侧壁部及各该第一绝缘部共同形成一凹槽。

5.一种换能装置，其特征在于，包括：

多个如权利要求1至4任一项所述的换能结构，其中各该换能结构的该第一电极之间至少沿一方向互相分开，且各该第一电极呈阵列排列；以及

一线路，位于该多个换能结构的一侧，其中该多个换能结构的各该第一电极之间通过该线路互相电性连接，且该线路及该多个第一电极为同一膜层。

6.一种换能结构的制造方法，其特征在于，包括：

形成一第一电极在一基板上；

形成一牺牲层在该第一电极上；

形成一无机层在该牺牲层及该第一电极上；

图案化该无机层，以形成多个上孔洞及一下振荡部，该多个上孔洞位于该下振荡部的两侧，且该牺牲层通过该多个上孔洞露出；

移除该牺牲层，以形成分别位于该多个上孔洞下方的多个下孔洞及位于该下振荡部下方的一容置空间；

形成一第一绝缘层在该无机层上，其中该第一绝缘层具有多个第一绝缘部及一上振荡部，该上振荡部位于该下振荡部之上，该多个第一绝缘部分别填入该多个下孔洞中，该第一电极、该多个第一绝缘部及该下振荡部共同形成一空腔；以及

以多个第二绝缘部分别填入该多个上孔洞中，该多个第二绝缘部分别位于该多个第一绝缘部上，其中该多个第二绝缘部的材料包括光阻。

7.如权利要求6所述的换能结构的制造方法，其特征在于，以该多个第二绝缘部分别填入该多个上孔洞中包括：

全面地形成一第二绝缘层于该第一绝缘层上；以及

去除部分的该第二绝缘层，以形成该多个第二绝缘部，其中去除部分的该第二绝缘层时不去除该第一绝缘层。

8.如权利要求7所述的换能结构的制造方法，其特征在于，该第二绝缘层的材料和该第一绝缘层的材料不同。

9.如权利要求7所述的换能结构的制造方法，其特征在于，该第二绝缘层的形成方法为旋转涂布法。

10.如权利要求6所述的换能结构的制造方法，其特征在于，该第一绝缘层的厚度为1000 埃至5500埃。