[发明专利]后处理装置及印刷系统有效
申请号: | 202011139272.1 | 申请日: | 2020-10-22 |
公开(公告)号: | CN112707224B | 公开(公告)日: | 2022-12-23 |
发明(设计)人: | 坂上将太;天野祐作;圆谷悠;百瀬功 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | B65H31/00 | 分类号: | B65H31/00;B41J2/01 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 沈丹阳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 装置 印刷 系统 | ||
1.一种后处理装置,其特征在于,对通过液体喷出部进行了记录的介质执行后处理,所述后处理装置具备:
中间托盘,载置朝向输送方向输送的所述介质并对其进行整合;
排出口,排出在所述中间托盘上进行过后处理的所述介质;
排出托盘,相对于所述排出口配置于重力方向上,并载置从所述排出口排出的所述介质;以及
升降机构,使所述排出托盘升降,
所述升降机构能够使所述排出托盘移动至第一通常位置和相对于该第一通常位置位于所述重力方向的反方向上的第一待机位置,在所述介质与所述排出托盘或先载置于所述排出托盘上的介质接触之前,所述升降机构根据从所述液体喷出部向介质喷出的液体的量,使所述排出托盘移动至所述第一通常位置或所述第一待机位置,
所述介质具有配置于所述输送方向的下游侧的第一区域和配置于所述输送方向的上游侧的第二区域,
所述升降机构根据向所述第一区域喷出的液体的量而使所述排出托盘移动至所述第一通常位置或所述第一待机位置。
2.根据权利要求1所述的后处理装置,其特征在于,
除了从所述液体喷出部向介质喷出的液体的量以外,所述升降机构还采用影响所述液体的干燥的参数来变更所述排出托盘的所述第一待机位置或第二待机位置,
影响所述液体的干燥的参数包括环境温度、环境湿度、朝向所述输送方向输送的所述介质的输送速度以及朝向所述输送方向输送的所述介质的停止时间中的至少一种参数。
3.根据权利要求1所述的后处理装置,其特征在于,
所述介质包括最先载置于所述排出托盘上的第一介质和接下来载置于所述排出托盘上的第二介质,
在作用于所述第一介质与所述第二介质之间的摩擦力根据向所述第一介质喷出的液体的量而变化的情况下,所述升降机构根据所述第一介质与所述第二介质的接触部位处的向所述第一介质喷出的液体的量而变更所述第一待机位置的高度。
4.根据权利要求1所述的后处理装置,其特征在于,
除了从所述液体喷出部向介质喷出的液体的量以外,所述升降机构还采用影响重力引起的所述介质的变形的参数来变更所述排出托盘的所述第一待机位置,
所述影响重力引起的所述介质的变形的参数包括所述介质在所述输送方向上的长度和在所述中间托盘上执行后处理的所述介质的张数中的至少一种参数。
5.一种后处理装置,其特征在于,对通过液体喷出部进行了记录的介质执行后处理,所述后处理装置具备:
中间托盘,载置朝向输送方向输送的介质;
排出口,排出在所述中间托盘上进行过后处理的所述介质;
排出托盘,相对于所述排出口配置于重力方向上,并载置从所述排出口排出的所述介质;以及
升降机构,使所述排出托盘升降,
所述升降机构能够使所述排出托盘移动至第二通常位置和相对于该第二通常位置位于所述重力方向的反方向的第二待机位置,
所述介质包括最先载置于所述排出托盘上的第一介质和接下来载置于所述排出托盘上的第二介质,
在作用于所述第一介质与所述第二介质之间的摩擦力根据向所述第一介质喷出的液体的量而变化的情况下,所述升降机构在所述第二介质与所述第一介质接触之前,根据所述第一介质与所述第二介质的接触部位处的向所述第一介质喷出的液体的量,使所述排出托盘移动至所述第二通常位置或所述第二待机位置。
6.根据权利要求1或5所述的后处理装置,其特征在于,
所述液体喷出部根据印刷数据向所述介质喷出所述液体,
从所述液体喷出部向介质喷出的液体的量自所述印刷数据获取到。
7.根据权利要求5所述的后处理装置,其特征在于,
除了从所述液体喷出部向介质喷出的液体的量以外,所述升降机构还采用影响重力引起的所述介质的变形的参数来变更所述排出托盘的所述第二待机位置,
所述影响重力引起的所述介质的变形的参数包括所述介质在所述输送方向上的长度和在所述中间托盘上执行后处理的所述介质的张数中的至少一种参数。
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