[发明专利]一种深纹路无溶剂合成革制备方法

说明书

本发明提供一种深纹路无溶剂合成革制备方法，涉及合成革领域，包括深纹路无溶剂合成革，所述深纹路无溶剂合成革包含面层、无溶剂层、基布层，所述面层是将面层浆料涂在深纹路离型纸上，所述无溶剂层是将无溶剂双组份树脂浆料涂在面层上，所述高密度单面长毛基布层贴合在无溶剂层上；在树脂中引入聚合物多元醇可以改善制品的硬度，提高承载性能，降低成本；聚碳酸酯二元醇制得的聚氨酯具有优良的耐候性、耐水解性和耐磨性；醚酯共聚多元醇与聚醚多元醇、聚酯多元醇配合使用，可以改善体系的相容性。

技术领域

本发明涉及合成革领域，尤其涉及一种深纹路无溶剂合成革制备方法。

背景技术

在传统合成革生产工艺中，赋予皮革表面纹路通常有三种方式，分别为压纹、真空吸纹和纸纹。其中使用离型纸进行纹路转移的工序流程相对最为简单，现很多革厂对纸纹的使用已经越来越广泛，但纸纹在实际的应用中有一定的局限性，主要表现在深纹路产品上，如鳄鱼纹、石头纹等产品，纹路效果无法达到压纹出来的立体清晰，甚至在生产过程中很容易出现“针孔”、“烂面”、“露底”等不良现象，品质问题严重。

目前国内合成革的制造主要采用溶剂型聚氨酯，包括溶剂型表处树脂、溶剂型面层树脂和溶剂型粘接胶，年需求量达200万吨/年。而这些树脂都含有大量的二甲基甲酰胺、甲苯和丁酮等有机溶剂，据统计，每年合成行业无序排放的有机溶剂达70-100万吨/年，造成严重的资源浪费和环境污染。

发明内容

本发明的目的在于提供一种深纹路无溶剂合成革制备方法，以解决上述技术问题。

本发明为解决上述技术问题，采用以下技术方案来实现：

一种深纹路无溶剂合成革制备方法，包括深纹路无溶剂合成革，所述深纹路无溶剂合成革包含面层、无溶剂层、基布层，所述面层是将面层浆料涂在深纹路离型纸上，所述无溶剂层是将无溶剂双组份树脂浆料涂在面层上，所述高密度单面长毛基布层贴合在无溶剂层上。

优选的，所述无溶剂双组份树脂浆料由以下配比组分组成：80-120份无溶剂树脂、70-130份无溶剂羧基、40-60助剂、30-50填充物。

优选的，所述无溶剂羧基是由液态六亚甲基二异氰酸酯和液态聚醚、聚酯多元醇、二甘醇逐步聚合形成线型或带支链的预聚物，且以羟基或氨基封端的脂肪族或芳香族聚氨酯。

优选的，所述助剂为、Silok355、Silok8230、Silok8450、Coatsil 7602、TegoGlide410、Tego Glide 435、Tego Wet KL 245、DC-51或DC-57中的任一种或多种复合。

优选的，所述填料为轻质碳酸钙、炭黑、气相二氧化硅、蒙脱土或木素粉中的任一种或其组合。

优选的，所述深纹路无溶剂合成革制备方法的工艺流程，包括如下步骤：

S1.选择单面基布。

S2.干法面层浆料制备：将树脂用纯DMF稀释至粘度3000cps，在100份稀释树脂中加入3-10份色片，搅拌均匀分散，待用。

S3.无溶剂层浆料配置：在无溶剂羟基组分中添加少许助剂及填充物，与羟基组分按照100:53混合均匀。

S4.在深纹路离型纸上刮涂面料，130℃烘干，其上刮涂中间层料，130℃烘干，其上刮涂无溶剂层浆料，经过110℃烘至半干，与高密度单面长毛基布贴合，130℃烘4-5min，冷却收卷得贴面半成品。

S5.表面印刷花纹，手感处理。

本发明的有益效果是：