[发明专利]一种高稳定性量子点膜的制备方法在审
| 申请号: | 202011132805.3 | 申请日: | 2020-10-21 |
| 公开(公告)号: | CN112321980A | 公开(公告)日: | 2021-02-05 |
| 发明(设计)人: | 罗培栋;缪燃;王立超;魏俊峰 | 申请(专利权)人: | 宁波东旭成新材料科技有限公司 |
| 主分类号: | C08L33/12 | 分类号: | C08L33/12;C08L25/06;C08L69/00;C08L67/02;C08L23/12;C08L71/00;C08K9/10;C08J5/18 |
| 代理公司: | 慈溪方升专利代理事务所(普通合伙) 33292 | 代理人: | 严晓 |
| 地址: | 315321 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 稳定性 量子 制备 方法 | ||
一种高稳定性量子点膜的制备方法,包括如下步骤:S1、提供量子点;S2、将量子点嵌入到聚苯乙烯‑聚乙烯‑聚丁烯‑聚苯乙烯嵌段共聚物颗粒中;S3、将包含量子点的聚苯乙烯‑聚乙烯‑聚丁烯‑聚苯乙烯嵌段共聚物颗粒与有机高分子塑胶材料混合;S4、将上述混合物制成量子点膜。在本发明中,SEBS包裹的量子点可以有效的提高量子点的稳定性,相对于传统将量子点直接包覆在高分子塑胶材料内,SEBS的包裹使量子点在空气和水中的PL值衰退时间有了显著的增加,大大提高了量子点膜稳定性能。
技术领域
本发明涉及一种高稳定性量子点膜的制备方法。
背景技术
量子点是一种新型纳米材料,其尺寸通常介于1~10nm之间,由无机核以及包覆在核表面的有机分子所构成。纳米尺度下,量子点具有特殊的结构特点,表现出一些奇妙特性,如多激子效应、量子尺寸效应、宏观量子隧道效应以及表面效应等。量子点相比LED中常见的荧光材料,具有激发光谱宽、发射光谱窄、发射波长可调、量子产率高、不易发生光漂白等优点,是目前理想的荧光材料,在显示领域、激光领域、照明领域、太阳能电池、生物荧光标记等方面有着巨大的应用前景。
但是,量子点稳定性不足,通常认为量子点容易受到空气中水氧分子的影响,使其结构产生分解破坏,使得发光效率下降,发光寿命缩短,容易失活。目前通常是将量子点制成量子点膜来提高量子点的稳定性。所谓量子点膜是以量子点、阻隔性树脂以及光学级水氧阻隔膜为主要原料,结合高精密涂布技术制作的广色域特种光学薄膜。量子点膜在屏幕显示、荧光标记、照明等领域有着广泛运用。
现有技术中量子点膜虽然具备一定的耐水性和抗氧化能力,但远远无法满足越来越高的要求。
发明内容
为了克服现有量子点稳定性不足的缺点,本发明提供一种高稳定性量子点膜的制备方法,可制备出高稳定性的量子点膜。
本发明解决其技术问题的技术方案是:一种高稳定性量子点膜的制备方法,包括如下步骤:
S1、提供量子点;
S2、将量子点嵌入到聚苯乙烯-聚乙烯-聚丁烯-聚苯乙烯嵌段共聚物(SEBS)颗粒中,其包括如下步骤:
(a)、将量子点于有机溶剂中分散均匀;
(b)、将聚苯乙烯-聚乙烯-聚丁烯-聚苯乙烯嵌段共聚物与有机溶剂混合并持续搅拌;
(c)、将上述两种溶液混合并搅拌均匀;
(d)、采用电喷雾技术将(c)中溶液喷出得到包裹有聚苯乙烯-聚乙烯-聚丁烯-聚苯乙烯嵌段共聚物的量子点;
S3、将包含量子点的聚苯乙烯-聚乙烯-聚丁烯-聚苯乙烯嵌段共聚物颗粒与有机高分子塑胶材料混合;
S4、将上述混合物制成量子点膜,此为现有技术中的常规步骤,故不再展开。
优选的,步骤(a)、步骤(b)中的有机溶剂为卤代烃溶剂或酯类溶剂。
优选的,在步骤(a)中所述量子点有机溶液的浓度为0.01~0.2μmol/ml,步骤(b)中聚苯乙烯-聚乙烯-聚丁烯-聚苯乙烯嵌段共聚物溶液浓度为1~20 mg/ml。
优选的,步骤S3中有机高分子塑胶材料为PMMA、或PS、或PC、或MS、或PET、或PP。
优选的,步骤S3中包含量子点的聚苯乙烯-聚乙烯-聚丁烯-聚苯乙烯嵌段共聚物颗粒所占质量百分数为0.1%~10%。
本发明的有益效果在于:在本发明中,SEBS包裹的量子点可以有效的提高量子点的稳定性,相对于传统将量子点直接包覆在高分子塑胶材料内,SEBS的包裹使量子点在空气和水中的PL值衰退时间有了显著的增加,大大提高了量子点膜稳定性能。同时该量子点膜由于没有阻隔膜的存在,量子点膜的厚度显著降低,制作成本也大幅下降。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁波东旭成新材料科技有限公司,未经宁波东旭成新材料科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011132805.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





