[发明专利]微结构的生成方法及表面具有微结构的产品在审

专利信息
申请号: 202011127921.6 申请日: 2020-10-20
公开(公告)号: CN112250312A 公开(公告)日: 2021-01-22
发明(设计)人: 李磊;刘风雷;李其凡;王琳;高雅楠;蒋晓 申请(专利权)人: 浙江水晶光电科技股份有限公司
主分类号: C03C15/00 分类号: C03C15/00;C04B41/53;G03F7/00
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 衡滔
地址: 318000 浙江省台州市椒*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 微结构 生成 方法 表面 具有 产品
【说明书】:

本申请提供一种微结构的生成方法及表面具有微结构的产品,方法包括:根据表面具有微结构的第一模板,在基板上形成具有微结构的掩膜层,其中,微结构包含具有至少一项结构特征的多个单体结构,结构特征为:多个单体结构尺寸不一,或者,多个单体结构非均匀排布;对具有掩膜层的基板进行等离子刻蚀,以将掩膜层包含的微结构复刻到基板的本体上。微结构可以保证产品的抗眩光效果,而采用将第一模板具有的微结构复刻到基板的掩膜层,再通过等离子刻蚀的方式将掩膜层的微结构复刻到基板的本体上,可以提升产品的性能、精度和可靠性。

技术领域

本申请涉及等离子刻蚀技术领域,具体而言,涉及一种微结构的生成方法及表面具有微结构的产品。

背景技术

当光照射到光滑的材料表面(如玻璃、石英、蓝宝石等),会发生镜面反射,反射的光十分明亮(即眩光),进入人眼会使人看不清材料表面及通过材料展示的影像,甚至会引起视觉疲劳等。而消费电子市场中,各种各样的电子产品表面设有用于显示的屏幕,而屏幕的材料及光滑的表面,很容易产生炫光。

目前,防眩光技术在各种显示类应用(如车载屏幕、手机屏幕等)中占很大比重,而随着微纳行业的兴起,现有技术已难以满足行业对高性能、高精度、高重复性和可靠性的产品的要求。现有的防眩光制作技术如磨砂技术中,将玻璃切割为指定规格尺寸的玻璃样片,并对玻璃样片进行清洗和干燥,然后将玻璃样片浸泡于过饱和蒙砂液中或在玻璃样片上喷淋过饱和蒙砂液,对玻璃样片进行蒙砂处理,使过饱和蒙砂液在玻璃表面析晶。最后将经过蒙砂处理的玻璃样片清洗干净后,进行抛光、清洗和干燥,得到抗眩光玻璃。但这种方式制作的产品精度低,重复性和可控性差。

发明内容

本申请实施例的目的在于提供一种微结构的生成方法及表面具有微结构的产品,以提高防眩光产品的性能、精度和可靠性。

为了实现上述目的,本申请的实施例通过如下方式实现:

第一方面,本申请实施例提供一种微结构的生成方法,所述方法包括:根据表面具有微结构的第一模板,在基板上形成具有所述微结构的掩膜层,其中,所述微结构包含具有至少一项结构特征的多个单体结构,所述结构特征为:所述多个单体结构尺寸不一,或者,所述多个单体结构非均匀排布;对具有所述掩膜层的基板进行等离子刻蚀,以将所述掩膜层包含的所述微结构复刻到所述基板的本体上。

在本申请实施例中,通过利用具有微结构的第一模板在基板上形成具有微结构的掩膜层,然后对具有掩膜层的基板进行等离子刻蚀,以将掩膜层包含的微结构复刻到基板的本体上。其中,微结构包含多个单体结构,且多个单体结构至少具备以下结构特征的至少一项:所述多个单体结构尺寸不一,或者,所述多个单体结构非均匀排布。微结构可以保证产品的抗眩光效果,而采用将第一模板具有的微结构复刻到基板的掩膜层,再通过等离子刻蚀的方式将掩膜层的微结构复刻到基板的本体上,可以提升产品的性能、精度和可靠性。

结合第一方面,在第一方面的第一种可能的实现方式中,所述根据表面具有微结构的第一模板,在基板上形成具有所述微结构的掩膜层,包括:通过纳米压印工艺,将所述第一模板表面的所述微结构,复刻到所述基板上设置的掩膜层上,以在基板上形成具有所述微结构的掩膜层。

在该实现方式中,通过纳米压印工艺将第一模板表面的微结构复刻到基板上设置的掩膜层上,可以保证掩膜层上微结构的精度。并且,采用纳米压印的方式,可以保证微结构的一致性和可靠性,且具有可重复性。

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