[发明专利]微透镜阵列的制备方法、微透镜阵列及屏下指纹模组

说明书

本发明提供一种微透镜阵列的制备方法、微透镜阵列及屏下指纹模组，其中所述微透镜阵列具有相反的第一侧和第二侧，所述第二侧具有凹陷部，所述制备方法包括，S101：制备或提供与微透镜阵列的第一侧的面形相对应的第一母版；S102：制备或提供与微透镜阵列的第二侧的面形相对应的第二母版；S103：利用所述第一母版，通过透镜基材形成所述微透镜阵列的第一侧的面形；S104：利用所述第二母版，通过透镜基材形成所述微透镜阵列的第二侧的面形；S105：向所述凹陷部填涂吸光材料；和S106：使所述吸光材料固化，形成微透镜阵列的遮光部。通过本发明的实施例，有效防止了微透镜间大角度光线的串扰，提高了入射光透过微透镜后的成像效果，并提高了微透镜的聚光效率。

技术领域

本发明大致涉及光学技术领域，尤其涉及一种微透镜阵列的制备方法、微透镜阵列及屏下指纹模组。

背景技术

现有技术中的微透镜阵列是通过将多个微透镜设置在透明光学材料基底上。如图1所示，当入射光透过该种结构的微透镜时，也可能会透过与其相邻的微透镜，不同透镜之间光线发生相互串扰，易导致信噪比低，进而影响成像质量。除此以外，如图2所示，也可以利用光刻技术做一层或者多层遮光层，但此种做法的缺点是成本高。而且，为了防止光线串扰，微透镜阵列中的通光孔径开口设置的较小，从而影响了入射光的透过率，进而影响了成像面的照度及均匀性。另外，使用单层或多层遮光层的结构，会导致一些大角度的光也容易透过，从而导致信噪比降低。

背景技术部分的内容仅仅是发明人所知晓的技术，并不当然代表本领域的现有技术。

发明内容

有鉴于现有技术的至少一个缺陷，本发明提供一种微透镜阵列的制备方法，其中所述微透镜阵列具有相反的第一侧和第二侧，所述第二侧具有凹陷部，所述制备方法包括：

S101：制备或提供与微透镜阵列的第一侧的面形相对应的第一母版；

S102：制备或提供与微透镜阵列的第二侧的面形相对应的第二母版；

S103：利用所述第一母版，通过透镜基材形成所述微透镜阵列的第一侧的面形；

S104：利用所述第二母版，通过透镜基材形成所述微透镜阵列的第二侧的面形；

S105：向所述凹陷部填涂吸光材料；和

S106：使所述吸光材料固化，形成微透镜阵列的遮光部。

根据本发明的一个方面，其中所述步骤S101包括：通过激光直写、光刻或者超精密机床将所述微透镜阵列的第一侧的面形加工成第一母版；所述步骤S102包括：通过激光直写、光刻或者超精密机床将所述微透镜阵列的第二侧的面形加工成第二母版。

根据本发明的一个方面，其中所述步骤S105还包括：控制所述吸光材料的量，使所述吸光材料固化后形成的遮光部的外表面不高于所述第二侧上与所述遮光部相邻的表面。

根据本发明的一个方面，其中所述步骤S103和S104通过压印工艺实施，所述压印工艺包括纳米压印。

根据本发明的一个方面，其中所述步骤S103和S104对不同的透镜基材实施；所述制备方法还包括：将形成有所述第一侧面形的透镜基材和形成有所述第二侧面形的透镜基材粘结起来。

根据本发明的一个方面，其中所述步骤S103和S104通过下面的方式实施：

在所述第一母版上涂覆所述透镜基材；

将所述第二母版和所述第一母版对准压合，形成所述微透镜阵列的第一侧和第二侧。

根据本发明的一个方面，还包括：调节所述第一母版和所述第二母版之间的间距。

本发明还涉及一种微透镜阵列，包括：