[发明专利]一种具有晶圆清洁功能的预抽真空室及晶圆清洁方法

权利要求书

1.一种具有晶圆清洁功能的预抽真空室，其特征在于，包括腔室、喷嘴、支架和真空吸盘；

所述支架设置在腔室的中心，所述真空吸盘固定在支架顶端，所述喷嘴设置在以真空吸盘为圆心的圆的半径方向上；所述真空吸盘用于固定晶圆并带动晶圆旋转，喷嘴设置在所述晶圆下方。

2.根据权利要求1所述的具有晶圆清洁功能的预抽真空室，其特征在于，所述喷嘴的进气管路上设置有过滤器。

3.根据权利要求1所述的具有晶圆清洁功能的预抽真空室，其特征在于，所述腔室底部设置有N₂入口和抽气口，所述N₂入口上设置有扩散器。

4.根据权利要求1所述的具有晶圆清洁功能的预抽真空室，其特征在于，所述喷嘴设置有能够均匀向晶圆背面吹扫气体的微孔。

5.根据权利要求4所述的具有晶圆清洁功能的预抽真空室，其特征在于，所述微孔数量为1～10000个，所述微孔尺寸为0.001mm～50mm。

6.根据权利要求4所述的具有晶圆清洁功能的预抽真空室，其特征在于，所述喷嘴为圆形、三角、四角、五角、六角形态的管中的一种。

7.根据权利要求1-6所述的具有晶圆清洁功能的预抽真空室，其特征在于，所述喷嘴下方设置有喷嘴支架。

8.一种晶圆清洁方法，其特征在于，包括以下步骤：

将晶圆转移到预抽真空室内，采用真空吸盘将晶圆固定；

在大气状态下，真空吸盘带动晶圆旋转，抽气开始的同时，喷嘴吹气体对晶圆进行背面清洁；

预抽真空室的压力抽到300mT后，停止吹气体，掉落的细微异物质从抽气线路排出。

9.根据权利要求8所述的晶圆清洁方法，其特征在于，晶圆的转速为10～1000rpm。

10.根据权利要求8所述的晶圆清洁方法，其特征在于，喷嘴吹气体的流量是1～50Torr。