[发明专利]发光装置有效

专利信息
申请号: 202011116675.4 申请日: 2016-05-18
公开(公告)号: CN112483911B 公开(公告)日: 2023-02-21
发明(设计)人: 清田征尔;高鹤一真;冈久英一郎 申请(专利权)人: 日亚化学工业株式会社
主分类号: F21K9/20 分类号: F21K9/20;F21K9/69;F21V5/04;F21Y115/30
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王玮;闫月
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 发光 装置
【说明书】:

本发明提供一种发光装置,其即使在透镜阵列从规定的朝向稍微旋转地被安装的情况下,光源与透镜部的位置关系也难以产生大的偏移,从透镜阵列射出的光的强度分布不易发生变化。该发光装置具备:基体;矩阵状地具有多个透镜部的透镜阵列;以及被配置于上述基体上的多个半导体激光元件,上述多个半导体激光元件分别射出激光,各激光在上述多个透镜部的各光射入面具有与行方向上相比列方向上宽度变宽的光束形状,上述多个透镜部具有比各个透镜部的最大外径和列方向的顶点间距离中的任一个都小的行方向的顶点间距离,并且在行方向和列方向上具有相同的曲率。

本申请为专利申请号为201610330335.9(申请日:2016年05月18日,发明名称为“发光装置”)的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及发光装置。

背景技术

公知有通过准直透镜阵列使从多个光源射出的光准直的光源装置(参照专利文献1)。

专利文献1:日本特开2014-102367号公报。

然而,在上述以往的光源装置中,构成准直透镜阵列的各透镜要素根据射入各透镜要素的激光的剖面形状而具有多个曲率。因此,只要准直透镜阵列从规定的朝向稍微旋转地被安装,就有光源与透镜要素的位置关系产生大的偏移,从准直透镜阵列射出的光的强度分布发生变化的可能。

另外,若激光在透镜的光射入面中的扩散较大,则只要准直透镜阵列从规定的朝向稍微旋转地被安装,就有光源与透镜要素的位置关系产生大的偏移,从准直透镜阵列射出的光的强度分布发生变化的可能。

发明内容

上述课题例如能够通过以下手段解决。一种发光装置,其具备:基体、矩阵状地具有多个透镜部的透镜阵列以及被配置于上述基体上的多个半导体激光元件,该发光装置的特征在于,上述多个半导体激光元件分别射出激光,各激光在上述多个透镜部的各光射入面具有与行方向上相比列方向上宽度变宽的光束形状,上述多个透镜部具有比各个透镜部的最大外径与列方向的顶点间距离中的任一个都小的行方向的顶点间距离,并且在行方向与列方向上具有相同的曲率。

根据上述发光装置,能够提供如下发光装置,其即使在透镜阵列从规定的朝向稍微旋转地被安装的情况下,光源与透镜部的位置关系也不易产生大的偏移,从透镜阵列射出的光的强度分布也不易发生变化。

附图说明

图1A是实施方式1所涉及的发光装置的示意俯视图。

图1B是图1A中的A-A剖视图。

图1C是图1A中的B-B剖视图。

图1D是图1A中的C-C剖视图。

图2A是基体的示意俯视图。

图2B是图2A中的D-D剖视图。

图2C是图2A中的E-E剖视图。

图3A是透镜阵列的示意俯视图。

图3B是图3A中的F-F剖视图。

图3C是图3A中的G-G剖视图。

图3D是图3A中的H-H剖视图。

图4A是被配置于基体上的半导体激光元件的示意俯视图。

图4B是图4A中的I-I剖视图。

图4C是图4A中的J-J剖视图。

图4D是将图4C中用虚线包围的部分放大表示的图。

图5A是密封部件的示意俯视图。

图5B是图5A中的K-K剖视图。

图5C是图5A中的L-L剖视图。

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