[发明专利]显示面板及其制作方法有效
| 申请号： | 202011109456.3 | 申请日： | 2020-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN112309847B | 公开（公告）日： | 2022-04-26 |
| 发明（设计）人： | 胡小波 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/28 | 分类号： | H01L21/28;H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 徐世俊 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 显示 面板 及其 制作方法 | ||
1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
在衬底上形成金属薄膜层；
在所述金属薄膜层上形成疏水层及光阻层；
对所述光阻层进行图案化处理，以形成光阻图案；
将未被所述光阻图案覆盖的所述疏水层去除；
对未被所述疏水层覆盖的所述金属薄膜层进行蚀刻处理，以形成第一电极层；
其中，所述疏水层的材料为双层石墨烯、三层石墨烯、碳纤维、碳纳米管中的任意一种或多种的组合。
2.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第一电极层为栅极层，或所述第一电极层为源漏极层。
3.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述显示面板的制作方法还包括：
剥离所述光阻层。
4.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，形成第一电极层之后还包括：
在所述第一电极层上形成钝化层；
在所述钝化层上形成像素电极层。
5.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第一电极层包括第一阻挡层、及位于所述第一阻挡层上的第一金属薄膜层。
6.根据权利要求5所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第一电极层还包括位于所述第一金属薄膜层上的第二阻挡层。
7.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，将未被所述光阻图案覆盖的所述疏水层去除的步骤包括：
利用等离子气体处理，将未被所述光阻图案覆盖的所述疏水层去除；
其中，所述等离子气体包括氢气等离子或氧气等离子。
8.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板利用如权利要求1～7中任一项所述的显示面板的制作方法制作形成。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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