[发明专利]一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺

说明书

本发明公开了一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺，其工艺步骤如下：该半导体废水主要分三大类：包括含铜，镍，锡重金属废、含氟离子废水，其处理工艺流程如下：首先将切割研磨硅片产生的废水和纯水系统反洗及RO浓水，分流单独处理，重金金属废水和含氟离子废水集中单独处理后再集中处理，合格达到半导体废水排放标准再排放；研磨切割废水单独处理后合格部分回收利用。有效的解决了现有技术中的缺陷，大大提高了该工艺效率。

技术领域

本发明涉及工业废水处理技术及回收利用技术领域，特别涉及一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺。

背景技术

半导体行业在我国的迅速发展，生产的半导体产品供应全国及世界。这样产生的废水污染可想而知。废水合理排放已经不能满足需求，废水再回收利用是未来发展趋势。废水合理利用对我国以后资源利用具有积极意义。

废水蒸发系统运行过程中，会发生结垢现象，严重影响了处理了效果。通过RO浓缩水单独收集，通过NaOH调节水中PH值，添加Na2CO₃反应生产CaCO₃,MgCO₃再自动加入絮凝剂形成絮凝沉淀。清水排出，进入蒸发系统。

发明内容

本发明的目的在于提供，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺，其特征在于，其工艺步骤如下：

该半导体废水主要分三大类：包括含铜，镍，锡重金属废、含氟离子废水，其处理工艺流程如下：

S1：首先将切割研磨硅片产生的废水和纯水系统反洗及RO浓水，分流单独处理，重金金属废水和含氟离子废水集中单独处理后再集中处理，合格达到半导体废水排放标准再排放；

S2：研磨切割废水单独处理后合格部分回收利用。

进一步的，含镍，铜废水处理工艺如下：

S1：先加入NaOH调节废水的PH，再利用Na2S(硫化钠)与废水中的镍离子反应生成沉淀，添加PAC,PAM，在调节池中形成絮凝；

S2：接着在沉淀池中使金属硫化物沉淀下来，经过砂滤去除废水中的悬浮物杂质，最后通过树脂对废水进行深度处理，使废水中的镍浓度达到上海半导体一级污染物排放标准；

进一步的，含镍，铜废水处理工艺如下：

S1：先用NaOH调节PH，再添加Na₂S(硫化钠)反应，再添加PAC和PAM加速沉淀，砂滤，最后利用树脂交换器进行深度处理，保证出水离子浓度达标排放。

进一步的，含氟废水处理为斜板沉淀法，其工艺流程如下：

S1：含氟离子废水和CaCl₂发生反应，控制PH值在10-11，保证投加过量的消石灰，通过化学反应生产了氟化钙沉淀；

S2：进入絮凝池，投加AL₂(SO₄)₂和PAM，结成大片絮凝物，控制PH值在7-8之间，落在斜板沉淀池内。

进一步的，以上处理为一级处理工艺，出水水质F-含量10mg/L，符合排放标准；研磨废水和纯水排放废水一起处理，通过调节池，和浊度仪表查看浊度情况，如果浊度合格，通过2#调节池之后再次调节均匀，再次进入3#调节池，如果水质不合格的情况下，需要回流至1#调节池；重金属废水和含氟废水通过上述方法处理后，再添加AL₂(SO₄)₃和PAM后，再次处理后，出水水质的含氟量和金属含量得到有效控制。