[发明专利]基板及其制备方法、显示面板

权利要求书

1.一种基板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：

提供一基底；

通过掩膜板在所述基底上依次制作若干膜层，使所述若干膜层相互间隔地设置于所述基底上；在每形成一膜层的同时，在该膜层的侧边形成相应网格状结构或者栅状结构，使所述网格状结构或者栅状结构位于相邻的膜层之间；

形成平坦层，以填充所述网格状结构或者栅状结构并且覆盖所述膜层的远离所述基底的一面；

其中，所述网格状结构或者栅状结构包括两个以上第一柱体；所述第一柱体的高度大于所述膜层的三分之一且小于所述膜层的高度；相邻两个第一柱体之间存在间隙，所述膜层与所述第一柱体之间存在间隙，从而所述平坦层填充所述膜层与所述第一柱体之间的间隙以及相邻两个第一柱体之间的间隙。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述膜层的高度为1μm以上，所述网格状结构或者栅状结构的宽度为5至30μm。

3.一种基板，其特征在于，包括：

基底；

若干膜层，相互间隔地设置于所述基底上，其中相邻的膜层之间具有网格状结构或者栅状结构；

平坦层，填充所述网格状结构或者栅状结构并且覆盖所述膜层的远离所述基底的一面；

其中，所述网格状结构或者栅状结构包括两个以上第一柱体；所述第一柱体的高度大于所述膜层的三分之一且小于所述膜层的高度；相邻两个第一柱体之间存在间隙，所述膜层与所述第一柱体之间存在间隙，从而所述平坦层填充所述膜层与所述第一柱体之间的间隙以及相邻两个第一柱体之间的间隙。

4.根据权利要求3所述的基板，其特征在于，所述膜层的高度为1μm以上，所述网格状结构或者栅状结构的宽度为5至30μm。

5.一种显示面板，包括权利要求3或4所述的基板。