[发明专利]一种大束流高密度的等离子源在审
申请号: | 202011092027.X | 申请日: | 2020-10-13 |
公开(公告)号: | CN112218419A | 公开(公告)日: | 2021-01-12 |
发明(设计)人: | 徐鸣;唐欢欢;安建昊 | 申请(专利权)人: | 江苏微凯机械有限公司 |
主分类号: | H05H1/46 | 分类号: | H05H1/46 |
代理公司: | 扬州邗诚专利代理事务所(普通合伙) 32469 | 代理人: | 吴淑芳 |
地址: | 225000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 大束流 高密度 离子源 | ||
1.一种大束流高密度的等离子源,其特征在于:包括气体放电室(1)、阳极筒(2)、控制线圈(3)、阴极发生装置(4)、氧气进气管(5)和冷却水管路(6);
所述气体放电室(1)内安装所述阳极筒(2),且所述阳极筒(2)与所述气体放电室(1)绝缘;
所述阳极筒(2)外周侧沿轴向安装设有所述控制线圈(3),所述控制线圈(3)可形成磁场;
所述阳极筒(3)内安装设有所述阴极发生装置(4);
所述阴极发生装置(4)包括阴极(41)、安装在阴极(41)上的阴极加热器(42)和设置在阴极加热器(42)外侧的陶瓷绝缘片(43);
所述氧气进气管(5)设置在所述气体放电室(1)的外侧且与所述气体放电室(1)连通;
所述冷却水管路(6)沿所述阴极发生装置(4)的周边设置。
2.根据权利要求1所述的一种大束流高密度的等离子源,其特征在于:所述阳极筒(2)为铜制成的圆柱体,且内外表面喷砂。
3.根据权利要求1所述的一种大束流高密度的等离子源,其特征在于:所述阴极发生装置(4)安装在所述阳极筒(2)的送气口的前方。
4.根据权利要求1所述的一种大束流高密度的等离子源,其特征在于:所述阴极(41)为六硼化镧制成。
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