[发明专利]显示屏、显示装置及显示屏的制备方法

权利要求书

1.一种显示屏，其特征在于，包括依次层叠设置的阵列基板、阳极层、发光层以及阴极层；

所述发光层包括多个发光单元和用于隔离各所述发光单元的像素限定层，所述像素限定层为透明层；

所述阴极层中设有与所述像素限定层对应的镂空区，所述镂空区具有半透光部以及贯穿所述阴极层的透光部，所述透光部用于供射向感光元件的光线穿过，所述半透光部用于阻止射向感光元件的光线经过所述镂空区时产生衍射；

所述透光部由多个贯穿所述阴极层的通孔组成，且多个所述通孔不规则排列在所述镂空区内；

相邻的所述通孔之间形成所述半透光部；

所述镂空区在所述像素限定层上的正投影的面积等于或小于所述像素限定层的面积；

所述镂空区成行、成列或呈阵列排布，且各所述镂空区的图案一致。

2.根据权利要求1所述的显示屏，其特征在于，所述通孔为贯穿所述阴极层的狭缝，且所述狭缝的宽度不等。

3.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1或2所述的显示屏，以及位于所述显示屏下方的感光元件，所述显示屏中的镂空区与所述感光元件对应。

4.一种显示屏的制备方法，其特征在于，包括如下步骤；

提供阵列基板；

在所述阵列基板上形成阳极层；

在所述阳极层上形成发光层，所述发光层包括多个发光单元和用于隔离各所述发光单元的像素限定层；

在所述发光层上形成阴极层；

去除所述阴极层中的部分区域，形成贯穿阴极层的透光部，且相邻的所述透光部之间形成半透光部，所述透光部和所述半透光部形成如权利要求1或2所述的镂空区，所述镂空区与所述像素限定层对应。

5.根据权利要求4所述的显示屏的制备方法，其特征在于，去除所述阴极层中的部分区域，形成贯穿阴极层的透光部，且相邻的所述透光部之间形成半透光部，所述透光部和所述半透光部形成镂空区，所述镂空区与所述像素限定层对应的步骤中包括：

提供压印模板；

在所述压印模板上形成第一光刻胶膜层；

图形化所述第一光刻胶膜层，形成第一光刻胶掩膜图案，所述第一光刻胶掩膜图案包括第一掩膜区和第一蚀刻区；

去除位于所述第一蚀刻区内的部分深度的所述压印模板，所述第一掩膜区对应的所述压印模板上形成压印图形，所述压印图形用于形成所述镂空区。

6.根据权利要求5所述的显示屏的制备方法，其特征在于，去除位于所述第一蚀刻区内的部分深度的所述压印模板，所述第一掩膜区对应的所述压印模板上形成压印图形，所述压印图形用于形成镂空区的步骤包括：

采用干法刻蚀或者湿法刻蚀去除与所述第一蚀刻区对应的部分深度的所述压印模板，形成与所述第一掩膜区对应的第一凸起；

在所述第一凸起上形成压印图形。

7.根据权利要求6所述的显示屏的制备方法，其特征在于，在所述第一凸起上形成压印图形的步骤包括：

在所述第一凸起背离所述压印模板的表面上形成第二光刻胶膜层；

图形化所述第二光刻胶膜层，形成第二光刻胶掩膜图案，所述第二光刻胶掩膜图案包括第二掩膜区和第二蚀刻区；

去除与所述第二蚀刻区对应的部分深度的所述第一凸起，所述第二掩膜区对应的第一凸起上形成第二凸起，所述第二凸起用于形成所述镂空区的透光部。

8.根据权利要求7所述的显示屏的制备方法，其特征在于，去除与所述第二蚀刻区对应的部分深度的所述第一凸起，所述第二掩膜区对应的第二凸起的步骤之后，还包括：

提供加压设备，所述加压设备的输出端与所述压印模板连接，用于给所述压印模板提供压力，使压印模板的压印图形与像素限定层对应的阴极层形成冷焊粘结；

移除压印模板，压印模板将与所述像素限定层对应的阴极层的部分区域剥离，在与所述像素限定层对应的阴极层上形成镂空区的透光部。

9.根据权利要求5所述的显示屏的制备方法，其特征在于，所述压印模板的材质包括硅、硅化合物或者金属中的至少一种。