[发明专利]一种水洗式废气处理设备

说明书

本发明涉及一种水洗式废气处理设备，包括底座(100)、水箱(200)和多级喷淋系统(300)，所述水箱(200)和多级喷淋系统(300)分别设置在底座(100)上部，所述水箱(200)的顶部连通进气口(400)，水箱(200)内部设置有多个由分隔板(210)隔开但又顺序连通的废气处理区域(220,230,240,250)，每个废气处理区域的顶部对应设置有多级喷淋系统(300)的喷头(308)，每个废气处理区域都设置有填充料隔板(203)，在填充料隔板(203)上设置有填充料；由进气口(400)进来的废气依序进入到每个废气处理区域(220,230,240,250)，经过喷淋水洗吸附后从出气口(260)离开水箱(200)。本发明具有效率高、安全、方便清洗的优点。

技术领域

本发明属于半导体、太阳能、薄膜电池、TFT等技术领域内的废气处理领域，尤其涉及一种水洗式废气处理设备。

背景技术

工艺废气处理设备既属于环保行业，又属于半导体等新兴行业专用高端智能附属设备。在集成电路的生产制造过程中，其中的一些工艺流程模块 (Module)如：化学气相沉淀(CVD)、刻蚀(Etch)、离子注入(Implant) 和扩散(Diffusion),以及非晶硅薄膜太阳能、液晶TFT-LCD薄膜的PECVD 工艺等都会用到大量的特殊气体。这些气体参与工艺反应之后，以废气的形式被排放，其种类可分为：有毒(Toxic)、酸性(Acid)、碱性(Alkali)、自燃(Self-ignitable)、易燃(Flammable)、腐蚀性(Caustic/Corrosive)以及全氟化合物(PFCs)与挥发性有机化合物(VOC)类气体等，

这些原来作为工艺原料或者反应副产物的有毒有害气体，其中一些有腐蚀各类管线的危险，有的与其他危害物相遇或累积较高浓度时会有火灾爆炸的危险，还有造成作业人员中毒、破坏大气环境等危害，为避免这些危害的发生，这些气体都必须经过无害化处理，使之符合国家大气排放标准后，方可排入大气中。这些领域的生产制造工艺中会使用到多种特殊气体、这些气体往往有剧毒、易燃、易爆等特点。未反应完的特气集中通入排气管道，在管道的后端需接入工艺气体处理设备进行处理后低于国家排放标准才能进行排放。

现有技术已经存在半导体废气的处理设备，如图10所示，废气由底部进气口进入，流经填充料及喷淋系统吸收后从上部的出气口排出至厂务端，下部的废水经水泵抽取并排出到厂务端。但该现有技术还存在不少的缺点，例如：1、使用过程中新鲜水一直排入、废水一直排出，用水量大；2、废气处理行程短，吸附效率低；3、无化学中和药剂、用水量大；4、进水无过滤装置、喷头容易堵塞，维护周期短；5、无PLC控制系统，安全性能低；6、仅有高液位感应，新鲜水进入时无法判断，存在废气未处理就被排出的弊端；7、水箱底部无维护窗口，水箱内部难以清洗。

基于此，特提出本发明。

发明内容

为了解决现有技术中存在的上述问题，本发明提供一种水洗式废气处理装置，具体的技术方案如下：

一种水洗式废气处理设备，包括底座、水箱和多级喷淋系统，所述水箱和多级喷淋系统分别设置在底座上部，所述水箱的顶部连通进气口，水箱内部设置有多个由分隔板隔开但又顺序连通的废气处理区域，每个废气处理区域的顶部对应设置有多级喷淋系统的喷头，每个废气处理区域都设置有填充料隔板，在填充料隔板上设置有填充料；由进气口进来的废气依序进入到每个废气处理区域，经过喷淋和过滤后从出气口离开水箱。

进一步地，所述水箱为多空间结构，其包括水箱主体、上盖、多个分隔板和填充料隔板，所述上盖覆盖在所述水箱主体的顶部，水箱主体包括多个侧壁和两个底壁，多个所述分隔板与侧壁或者底壁连接，从而将水箱主体内部分隔成多个废气处理区域和一个除雾层，每个废气处理区域与相邻的废气处理区域有连通通道，两个相邻的所述连通通道不在同一水平位置，从而形成废气的S 型长行程路径；每个废气处理区域内都设置有填充料隔板。