[发明专利]一种蜂胶祛痘平衡基底液及其制备方法在审
申请号: | 202011082023.3 | 申请日: | 2020-10-12 |
公开(公告)号: | CN112121000A | 公开(公告)日: | 2020-12-25 |
发明(设计)人: | 于进勇 | 申请(专利权)人: | 北京蜜慕科技有限公司 |
主分类号: | A61K8/98 | 分类号: | A61K8/98;A61K8/34;A61K8/25;A61Q19/00;A61Q17/00;A61Q19/08;A61Q19/02;A61P17/10 |
代理公司: | 北京世誉鑫诚专利代理有限公司 11368 | 代理人: | 孙国栋 |
地址: | 100089 北京市海淀*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 蜂胶 平衡 基底 及其 制备 方法 | ||
本发明公开一种蜂胶祛痘平衡基底液的制备方法,以质量份计,包括以下步骤:(1)、将乳化锅清洗后消毒备用;(2)、将50份水和16.5份的磷硅酸钠钙分别倒入乳化锅中,搅拌均匀加热到85℃;(3)、保持水温在85℃,边搅拌边依次加入5份的蜂胶提取物、15份甘油、13份丙二醇,完全溶解后得到混合液,再将混合液在85℃保温40分钟;(4)、停止保温,待乳化锅中的混合液降温至50℃时,边搅拌边向乳化锅内加入0.1份的o‑伞花烃‑5‑醇、0.3份的1,2己二醇、0.1份的乙基己基甘油,搅拌均匀后,缓慢降温至到37℃,即得到蜂胶祛痘平衡基底液。本发明还公开了一种通过上述方法制备的蜂胶祛痘平衡基底液。
技术领域
本发明属于化妆品领域,具体涉及一种蜂胶祛痘平衡基底液及其制备方法。
背景技术
痤疮(青春痘)是一种由多种因素引起的常见的慢性毛囊、皮脂腺炎症性皮肤病,临床表现为粉刺、丘疹、脓疱、结节、囊肿及瘢痕等,好发于面、背、胸部等富含皮脂腺的部位,又以青少年时期发病率最高。
目前研究认为,痤疮的发病机制主要与下列四个因素有关:皮脂分泌过多、毛囊皮脂腺导管开口处角化过度、痤疮丙酸杆菌的繁殖以及炎症反应。痤疮愈合后留下的痘印凹坑会影响患者的外形美观和生活质量,严重的甚至给患者带来心理压力。
近年来有多批次祛痘平衡基底液均被检出含有四环素类、大环内酯类的抗生素成分,而这类成分同样在《化妆品安全技术规范》(2015年版)中被规定为化妆品中的禁用物质。经常使用含有抗生素的祛痘类化妆品很有可能使皮肤表面菌群失调并导致耐药菌的出现,或引发其他感染,含有抗生素的化妆品也容易导致消费者过敏而引发严重的过敏现象。此外,现有的不含抗生素类的祛痘平衡基底液在淡化痘印和美白方面的效果较差,见效甚微。
发明内容
发明目的:本发明针对上述现有技术存在的问题做出改进,即本发明公开了一种蜂胶祛痘平衡基底液及其制备方法。
技术方案:一种蜂胶祛痘平衡基底液的制备方法,以质量份计,包括以下步骤:
(1)、将乳化锅清洗后消毒备用;
(2)、将50份水和16.5份的磷硅酸钠钙分别倒入经过步骤(1)处理后的乳化锅中,搅拌均匀后加热到85℃;
(3)、保持水温在85℃,边搅拌边依次加入5份的蜂胶提取物、15份甘油、13份丙二醇,完全溶解后得到混合液,然后再将混合液在85℃保温40分钟;
(4)、停止保温,待乳化锅中的混合液降温至50℃时,边搅拌边向乳化锅内加入0.1份的o-伞花烃-5-醇、0.3份的1,2己二醇、0.1份的乙基己基甘油,搅拌均匀后,缓慢降温至到37℃,即得到蜂胶祛痘平衡基底液。
进一步地,还包括步骤(5)分装:把步骤(4)得到的蜂胶祛痘平衡基底液灌装到独立包装的包装瓶中,即得到独立包装的蜂胶祛痘平衡基底液。
更进一步地,灌装时,必须对灌装机及灌装器皿、灌装用具进行清洗、消毒与烘干。
更进一步地,对于包装瓶必须保持清洁并经灭菌处理。
一种蜂胶祛痘平衡基底液,通过上述任意一种方法制备而成。
有益效果:本发明公开的一种蜂胶祛痘平衡基底液及其制备方法具有以下有益效果:
1.调节皮肤PH值、平衡水油——使用PH测试纸试验,将蜂胶基底液喷涂在皮肤表面与体液结合3秒可见PH值为5.5-6;
2.抗微生物性能——可抵御多种细菌、真菌和酵母菌(超过29种);
3.矿物富集,重建皮肤屏障、收缩毛孔——促使矿物释放(主要是钙和二氧化硅),少量的水即可触发蜂胶祛痘平衡基底液的矿物富集效果,收缩毛孔、细腻皮肤;
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