[发明专利]一种用于CVD涂层设备的废气中和系统在审
| 申请号： | 202011077902.7 | 申请日： | 2020-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN112011785A | 公开（公告）日： | 2020-12-01 |
| 发明（设计）人： | 王彤 | 申请（专利权）人： | 常州艾恩希纳米镀膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;B01D53/78 |
| 代理公司： | 上海思牛达专利代理事务所(特殊普通合伙) 31355 | 代理人： | 丁剑 |
| 地址： | 213100 江苏省常州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 cvd 涂层 设备 废气 中和 系统 | ||
1.一种用于CVD涂层设备的废气中和系统，包括带磁感开关冷却水浮子流量计(6)、PH计(7)与溢流集水槽框架(15)，其特征在于：所述溢流集水槽框架(15)内放置有溢流集水槽(14)，所述溢流集水槽(14)的内部分别固定安装有中和系统主框架(13)，所述中和系统主框架(13)上分别固定安装有液环真空泵(1)、循环泵(5)、换热器(8)、碱液罐(10)与控制柜(16)，所述碱液罐(10)的顶部分别固定安装有搅拌电机(4)与喷淋塔(18)，所述碱液罐(10)的顶端固定安装有碱液罐抽风口(11)，所述喷淋塔(18)的顶端一侧固定安装有喷淋塔抽风口(12)，所述液环真空泵(1)的入口处固定连接有气动球阀(3)，所述气动球阀(3)的一端固定连接有废气进入口(2)。
2.根据权利要求1所述的一种用于CVD涂层设备的废气中和系统，其特征在于：所述液环真空泵(1)与气动球阀(3)之间固定连接有废气进入口N2保护系统(9)。
3.根据权利要求1所述的一种用于CVD涂层设备的废气中和系统，其特征在于：所述碱液罐(10)的一侧设置有液位计(17)。
4.根据权利要求1所述的一种用于CVD涂层设备的废气中和系统，其特征在于：所述液环真空泵(1)的顶部固定安装有废气中和后排出口(19)。
5.根据权利要求1所述的一种用于CVD涂层设备的废气中和系统，其特征在于：所述带磁感开关冷却水浮子流量计(6)、PH计(7)均连接在碱液管路中。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
