[发明专利]偏光基板及其制造方法

说明书

本发明公开一种偏光基板及其制造方法，偏光基板包括基板、反射层以及金属图案层。反射层位于基板上，且具有穿透区以及反射区。金属图案层位于反射层以及基板上。金属图案层包括偏光结构以及微结构。偏光结构包含多个重叠于穿透区的栅线。各栅线的厚度为200纳米至500纳米，各栅线的宽度为30纳米至70纳米，且两相邻的栅线之间的间距为30纳米至70纳米。微结构重叠于反射区，且微结构的厚度为20纳米至500纳米。

技术领域

本发明是有关于一种偏光基板及其制造方法，且特别是有关于一种包括栅线的偏光基板及其制造方法。

背景技术

金属栅线偏振器(Wire-grid Polarizer,WGP)是一种利用纳米压印技术(Nanoimprint lithography，NIL)制备的金属一维光栅。偏振方向垂直光栅的P波可以穿透金属栅线偏振器，且偏振方向平行光栅的S波会被金属栅线偏振器反射。因此，当以非偏振光照射金属栅线偏振器时，光线中的P波与S波得以分离。

在一些现有的液晶显示器中，金属栅线偏振器被用来偏振背光模组所射出的光线。然而，背光模组射出的部分光线不能穿透金属栅线偏振器，导致液晶显示器的亮度不足。

发明内容

本发明提供一种偏光基板，可以改善显示器亮度不足的问题。

本发明提供一种偏光基板的制造方法，可以改善显示器亮度不足的问题。

本发明的一实施例提供一种偏光基板。偏光基板包括基板、反射层以及金属图案层。反射层位于基板上，且具有穿透区以及反射区。金属图案层位于反射层以及基板上。金属图案层包括偏光结构以及微结构。偏光结构包含重叠于穿透区的多个栅线。各栅线的厚度为200纳米至500纳米，各栅线的宽度为30纳米至70纳米，且两相邻的栅线之间的间距为30纳米至70纳米。微结构重叠于反射区，且微结构的厚度为20纳米至500纳米。

本发明的一实施例提供一种偏光基板的制造方法，包括：形成反射层于基板上，其中反射层具有穿透区以及反射区；形成金属材料层重叠于反射区以及穿透区；以及图案化金属材料层以形成金属图案层。金属图案层包括偏光结构以及微结构。偏光结构包含重叠于穿透区的多个栅线。各栅线的厚度为200纳米至500纳米，各栅线的宽度为30纳米至70纳米，且两相邻的栅线之间的间距为30纳米至70纳米。微结构重叠于反射区，且微结构的厚度为20纳米至500纳米。

以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述，但不作为对本发明的限定。

附图说明

图1A至图1G是依照本发明的一实施例的一种偏光基板的制造方法的剖面示意图。

图2是本发明的一实施例的一种偏光基板的剖面示意图。

图3是本发明的一实施例的一种偏光基板的剖面示意图。

图4是本发明的一实施例的一种偏光基板的剖面示意图。

图5是本发明的一实施例的一种显示装置的剖面示意图。

图6是本发明的一实施例的一种显示装置的剖面示意图。

图7是本发明的一实施例的一种显示装置的剖面示意图。

图8是本发明的一实施例的一种显示装置的剖面示意图。

图9A至图9D是依照本发明的一实施例的一种偏光基板的制造方法的剖面示意图。

图10A至图10C是依照本发明的一实施例的一种偏光基板的制造方法的剖面示意图。

图11A至图11E是依照本发明的一实施例的一种偏光基板的制造方法的剖面示意图。

图12是本发明的一实施例的一种偏光基板的剖面示意图。