[发明专利]一种RO+EDI高效除硼系统

说明书

本发明提供一种RO+EDI高效除硼系统，包括依次包括前处理系统、一级RO系统、二级RO系统、EDI系统、除硼装置、供水系统，所述一级RO系统包括保安过滤器、一级RO高压泵、一级RO装置，所述二级RO系统包括二级RO高压泵、二级RO装置、二级RO水箱，所述EDI系统包括EDI增压泵、EDI保安过滤器、EDI装置，所述供水系统包括超纯水箱、后端抛光系统，在一级RO装置的出水口与二级RO高压泵的进水口之间设置有PH调节装置。通过本发明，以解决现有技术存在的无法通过传统的二级RO+EDI的工艺，将硼离子降至目标值，无法保证系统的出水要求的问题。

技术领域

本发明涉及一种水处理系统，具体涉及一种RO+EDI高效除硼系统。

背景技术

随着硅片的尺寸越来越大，对超纯水水质的要求也在不断提升，在8”、12”半导体行业中，超纯系统出水对硼离子含量的要求提到了50ppt-10ppt之间，而各地自来水中的含硼量各不相同，像浙江地区、天津地区等地方的自来水中的硼含量已经达到了60000ppt，而硼离子为弱电性，非常不易被去除，而水中的硼大多是以硼酸(B(OH)₃的形式存在，电性非常的弱，在水中常可以发生可逆水解反应，故需要在超纯水系统中改变特殊的针对除硼的工法，解决二级RO+EDI系统中对硼离子去除的难题。目前现有工艺方法中，对地区水质较恶劣的情况下，在考虑经济和实用性的前提下，会选用二级RO系统+EDI系统，当然根据水质要求的不同，还会配置对应的设备，但是选用一般的二级RO，对硼的去除效率不高，一般一级RO对硼的去除效率，仅为25％左右，而后端的二级RO，当PH到10时，会影响出水的电导率值，虽然对硼的去除率略有增加，但是二级RO出水水质变恶劣，故并不能一味地通过提高PH值来去除硼离子，也需要考虑到后端的EDI系统的稳定运行，另外，普通的EDI对硼的去除效率也非常的有限，且对进水电导率有一定的要求，故根本无法将硼离子从进口的60000ppt降至20ppt的要求，所以如何保证出口硼离子的要求，二级RO与EDI的工艺设计，在运行中显的犹为重要。

由上述内容可知，现有工艺中存在以下问题：无法通过二级RO+EDI的工艺，将硼离子降至目标值，无法保证系统的出水要求，若硼离子超标，会使产出的晶圆出现表面凹陷等缺陷，影响良品率，如果为达到硼离子的要求，在后端增加除硼树脂，则因为进该树脂的硼离子量巨大，需要更多的除硼树脂量，该螯合型的除硼树脂，价格昂贵，全部靠该种树脂去除，势必会增加全系统的投资成本及运行成本，非常的不经济，实用性低。

发明内容

本发明提供一种RO+EDI高效除硼系统，以解决现有技术存在的无法通过传统的二级RO+EDI的工艺，将硼离子降至目标值，无法保证系统的出水要求的问题。

为解决上述技术问题，本发明提供一种RO+EDI高效除硼系统，包括依次包括前处理系统、一级RO系统、二级RO系统、EDI系统、除硼装置、供水系统，所述一级RO系统包括保安过滤器、一级RO高压泵、一级RO装置，所述二级RO系统包括二级RO高压泵、二级RO装置、二级RO水箱，所述EDI系统包括EDI增压泵、EDI保安过滤器、EDI装置，所述供水系统包括超纯水箱、后端抛光系统，所述一级RO装置的出水管与所述二级RO高压泵连通，所述二级RO水箱与EDI系统的EDI增压泵进水口连通，在一级RO装置的出水口与二级RO高压泵的进水口之间设置有PH调节装置。

所述一级RO装置选用低压膜或增强型低污染低压反渗透复合膜。

所述二级RO装置选用海淡膜或低压膜。

所述二级RO水箱为氮封水箱。

所述超纯水箱为氮封超纯水箱。

在所述前处理系统和一级RO系统的保安过滤器之间设置有阻垢剂添加装置。

所述除硼装置内装有除硼树脂。

所述除硼装置的出水口连通二级RO水箱。