[发明专利]一种含稀释剂废液处理方法及装置在审
申请号: | 202011058945.0 | 申请日: | 2020-09-30 |
公开(公告)号: | CN112110592A | 公开(公告)日: | 2020-12-22 |
发明(设计)人: | 陈盛保;李红玲;曾辉;闻伴康;黄显延 | 申请(专利权)人: | 惠州TCL环境科技有限公司 |
主分类号: | C02F9/10 | 分类号: | C02F9/10;C07C69/14;C07C67/54;C07C67/60 |
代理公司: | 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 | 代理人: | 朱阳波 |
地址: | 516006 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 稀释剂 废液 处理 方法 装置 | ||
本发明公开了一种含稀释剂废液处理方法及装置,该方法包括:向所述含稀释剂废液中加入路易斯碱溶液,以形成第一混合溶液;对所述第一混合溶液进行沉降处理,以分别形成下层固液混合物以及上层沉降溶液;收集所述上层沉降溶液并进行第一蒸馏处理,以获得提纯的丙二醇甲醚醋酸酯。该方法通过向含稀释剂废液中添加路易斯碱溶液,发生系列化学反应,搅拌均匀后静置沉降,可以使原本均一状态的废液出现明显分层,使含稀释剂废液实现固液分离。该方法降低了危险废料量,提高了有机溶剂回收率,降低了生产处理成本。
技术领域
本发明涉及危险废物处置、环保与资源再利用领域,具体为一种含稀释剂废液处理方法及装置。
背景技术
目前,液晶显示面板生产制造领域,光刻技术被广泛应用,在Array和CF制程中,稀释剂被用于清洗涂布光刻胶的喷嘴及光照反应后的光刻胶,稀释剂的主要成分是丙二醇甲醚醋酸酯。被使用后的稀释剂因带入光刻胶而成为含稀释剂废液,含稀释剂废液的成分以丙二醇甲醚醋酸酯为主,同时含有树脂及其单体等,例如丙烯酸树脂及其单体。
回收以丙二醇甲醚醋酸酯为主要成分的有机溶剂是目前含稀释剂废液资源化再利用的处置方式,基于此,市场上使用先蒸馏后精馏的回收处置技术可以得到纯度较高的丙二醇甲醚醋酸酯。由于含稀释剂废液中含有树脂及其单体等,蒸馏过程中有机溶剂含量逐渐减少,同时伴随加热,釜底液逐渐变粘稠,如果持续加热,釜底液甚至由液态变半固态、固态,造成换热器被结焦堵塞,严重影响换热效果,并且釜底液结焦后清理困难;如果釜底液中保留较多有机溶剂,结焦状况可以大幅缓解,但需浪费较多有机溶剂。针对树脂及其单体回收处置过程中存在的上述问题,目前国内还没有看到相关有效解决方法。
因此,目前的含稀释剂废液处理方法及装置,仍有待改进。
发明内容
有鉴于此,本发明的目的在于提供含稀释剂废液处理方法及装置,原理是通过向含稀释剂废液中添加路易斯碱溶液,发生系列化学反应,搅拌均匀后静置沉降,可以使原本均一状态的废液出现明显分层,使含稀释剂废液实现固液分离。该方法降低了危险废料量,提高了有机溶剂回收率,降低了生产处理成本。
为实现上述目标,本发明的技术方案如下:
在本发明的一个方面,本发明提出了一种含稀释剂废液处理方法,该方法包括:
向所述含稀释剂废液中加入路易斯碱溶液,以形成第一混合溶液;
对所述第一混合溶液进行沉降处理,以分别形成下层固液混合物以及上层沉降溶液;
收集所述上层沉降溶液并进行蒸馏处理,以获得提纯的丙二醇甲醚醋酸酯。
根据本发明的实施例,在所述分别形成下层固液混合物以及上层沉降溶液之后,该方法进一步包括:
对所述下层固液混合物进行压滤处理,以分别得到滤渣和滤液;
对所述滤渣进行焚烧处理,以获得无害化尾料;
对所述滤液进行所述蒸馏处理,以获得提纯的丙二醇甲醚醋酸酯。
根据本发明的实施例,所述含稀释剂废液包括:丙二醇甲醚醋酸酯和丙烯酸树脂及其单体。
根据本发明的实施例,所述含稀释剂废液进一步包括:3-甲氧基丙酸甲酯、环己酮、3-乙氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丁基乙酸酯、颜料、碳黑、分散剂和光引发剂中的至少之一。
根据本发明的实施例,所述路易斯碱溶液包括:氢氧化钠、氢氧化镁、氢氧化钾、氨、甲胺、乙胺、丙胺和石灰的至少之一;所述路易斯碱溶液的质量为所述含稀释剂废液的质量的0.001~60%。
在本发明的另一个方面,本发明提出了一种含稀释剂废液处理装置,该装置包括:
依次连通的原料储罐、搅拌罐、沉降罐;
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